[发明专利]一种降冰片烯共聚物太阳电池基膜及其加工工艺有效
| 申请号： | 201210319904.1 | 申请日： | 2012-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN102832347A | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | 林建伟;夏文进;张育政;王志 | 申请（专利权）人： | 苏州中来光伏新材股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/44 | 分类号： | H01L51/44;H01L51/46;H01L51/48;C08L45/00;C08L69/00;C08L23/08;C08L31/04;C08L23/20;C08L23/12;C08L67/02;C08K3/22 |
| 代理公司： | 北京金之桥知识产权代理有限公司 11137 | 代理人： | 林建军 |
| 地址： | 215542 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种降冰片烯共聚物太阳电池基膜，其特征在于：所述基膜由降冰片烯共聚物、PC、EVA以及填料或降冰片烯共聚物、POE、EVA以及填料或降冰片烯共聚物、PP、EVA以及填料或降冰片烯共聚物和PET的共熔物以及填料所构成的单层结构，所述单层结构的基膜通过熔融挤出工艺加工而成。本发明提供的降冰片烯共聚物太阳电池基膜具有耐湿热老化，耐撕裂，耐水解，高的水蒸气阻隔性、高绝缘性能，高强度、尺寸稳定，易加工成型的特点，有利于保护太阳电池组件，延长太阳电池的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 冰片 共聚物 太阳电池 及其 加工 工艺 | ||
【主权项】：
一种降冰片烯共聚物太阳电池基膜，其特征在于：所述基膜由降冰片烯共聚物、PC、EVA以及填料或降冰片烯共聚物、POE、EVA以及填料或降冰片烯共聚物、PP、EVA以及填料或降冰片烯共聚物和PET的共熔物以及填料所构成的单层结构，所述单层结构的基膜通过熔融挤出工艺加工而成。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
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