[发明专利]待清洗硅片的保存方法

摘要

本发明公开了一种待清洗硅片的保存方法，涉及硅片清洗技术，硅片切片后立即离开切片机及砂浆液，并且立即放入已经准备好的乙醇溶液中；所述乙醇溶液的体积浓度或重量浓度为≥10%。进一步：所述乙醇溶液温度应保持在20至70摄氏度。本发明的有益效果是：此方法可以轻松的使硅片保持切片结束时的状态，使待清洗硅片易于保存，并且不会再硅片表面引入其他杂质，不会使硅片由于长时间得不到清洗而造成表面脏污难于去除，提高了清洗的效率及效果。

主权项

待清洗硅片的保存方法，其特征在于：硅片切片后立即离开切片机及砂浆液，并且立即放入已经准备好的乙醇溶液中；所述乙醇溶液的体积浓度或重量浓度为≥10%。