[发明专利]待清洗硅片的保存方法

说明书

技术领域

本发明涉及太阳能级硅片的制造技术领域，特别涉及硅片清洗技术。

背景技术

太阳能级硅片切片后会有很多待清洗硅片，目前待清洗硅片的处理方法为：放置于砂浆液中或者暴露于空气中。

而由于清洗设备不稳定或者断电等原因，会使得硅片长时间浸泡在砂浆液中或者暴露在空气中，造成硅片表面脏污氧化或者沉淀，造成在后段清洗中很难或者无法清除，因此，研究一种有效的解决方法，是很有必要的。本方法可以防止难于清洗脏污的形成，保证硅片的清洗效率及效果。

发明内容

本发明的目的是提供一种待清洗硅片的保存方法，此方法可以轻松的使硅片保持切片结束时的状态，使待清洗硅片易于保存，并且不会再硅片表面引入其他杂质，不会使硅片由于长时间得不到清洗而造成表面脏污难于去除，提高了清洗的效率及效果。

为实现上述发明目的，本发明采用如下技术方案：

待清洗硅片的保存方法，其特征在于：硅片切片后立即离开切片机及砂浆液，并且立即放入已经准备好的乙醇溶液中；所述乙醇溶液的体积浓度或重量浓度为≥10%。

其中：

所述硅片切片后离开切片机及砂浆液，并放入乙醇溶液中的时间，控制在30分钟内，进一步控制在15分钟以内，最佳控制在5分钟以内。

所述乙醇溶液温度可选择保持在20－70摄氏度，进一步是30－60摄氏度；也可以是室温状态。

本发明的有益效果是：此方法可以轻松的使硅片保持切片结束时的状态，使待清洗硅片易于保存，并且不会再硅片表面引入其他杂质，不会使硅片由于长时间得不到清洗而造成表面脏污难于去除，提高了清洗的效率及效果。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，并使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合实施例对本发明作进一步详细的说明。

实施例：

首先硅片在切片后应该立即将硅片从切片机及砂浆液中取出，取出后不可长时间暴露于空气中，即从切片后计时起，要在30分钟内放入配制好的乙醇溶液中，配制时，用乙醇的含量为97%，加纯水水配制成乙醇溶液，其体积浓度（或重量浓度）大于或等于10%以上，并且保证溶液温度在20至70摄氏度，将硅片放入溶液中保存。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。