[发明专利]一种V结构模仁及其制作方法、导光板的制作方法无效
| 申请号： | 201210276114.X | 申请日： | 2012-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN102929098A | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 龙登武 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;苏州京东方茶谷电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;G02B6/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种V结构模仁及其制作方法、导光板的制作方法，涉及显示器的制造领域，用以实现根据需要制作不同角度的V结构模仁，并利用V结构模仁制作导光板，降低加工成本，缩短加工周期的目的。所述方法包括：在底板上形成感光胶；在所述感光胶上设置遮光层，所述遮光层包括多个遮光条，所述遮光条的宽度与预先设计的V结构的宽度相等，且所述遮光条的中心轴间的间距与相应的所述V结构的中心轴间的间距相等；根据所述V结构的角度，利用曝光机对所述感光胶进行曝光；对所述感光胶进行显影处理，得到V结构模仁。本发明适用于显示器的生成与制造领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结构 及其 制作方法 导光板 | ||
【主权项】：
一种V结构模仁的制作方法，其特征在于，包括：在底板上形成感光胶；在所述感光胶上设置遮光层，所述遮光层包括多个遮光条，所述遮光条的宽度与预先设计的V结构的宽度相等，且所述遮光条的中心轴间的间距与相应的所述V结构的中心轴间的间距相等；根据所述V结构的角度，利用曝光机对所述感光胶进行曝光；对所述感光胶进行显影处理，得到V结构模仁。
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