[发明专利]一种V结构模仁及其制作方法、导光板的制作方法无效
| 申请号： | 201210276114.X | 申请日： | 2012-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN102929098A | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 龙登武 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;苏州京东方茶谷电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;G02B6/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 结构 及其 制作方法 导光板 | ||
1.一种V结构模仁的制作方法，其特征在于，包括：
在底板上形成感光胶；
在所述感光胶上设置遮光层，所述遮光层包括多个遮光条，所述遮光条的宽度与预先设计的V结构的宽度相等，且所述遮光条的中心轴间的间距与相应的所述V结构的中心轴间的间距相等；
根据所述V结构的角度，利用曝光机对所述感光胶进行曝光；
对所述感光胶进行显影处理，得到V结构模仁。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述感光胶为负性感光胶。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述遮光条平行等间距排列。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述遮光层为菲林层。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述曝光机的光源面分为第一光源面和第二光源面；
所述利用曝光机对所述感光胶进行曝光包括：
根据所述V结构的角度，调整第一光源面与第二光源面的角度；
通过所述第一光源面和第二光源面对所述感光胶进行曝光。
6.根据权利要求1-5任一项所述的方法，其特征在于，所述V结构的角度为60～135度，所述V结构的宽度为0.05～0.2mm。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述V结构的高度为0.005～0.04mm，且形成的所述感光胶的厚度大于等于所述V结构的高度。
8.一种V结构模仁，其特征在于，包括：底板及形成在所述底板上的感光胶，所述感光胶的表面为V结构。
9.根据权利要求8所述的V结构模仁，其特征在于，所述V结构的角度为60～135度之间的任意角度，所述V结构的宽度为0.05～0.2mm之间的任意宽度。
10.根据权利要求9所述的V结构模仁，其特征在于，所述V结构的高度为0.005～0.04mm之间的任意高度，所述感光胶的厚度大于等于V结构的高度。
11.一种导光板的制作方法，其特征在于，包括：利用V结构模仁通过射出成型的方法制作导光板；其中，所述V结构模仁为权利要求8-10任一项所述的V结构模仁。
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