[发明专利]一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构无效
| 申请号： | 201210258949.2 | 申请日： | 2012-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN102751131A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | 张毅;康一;周吉冰;张梅;陈志会 | 申请（专利权）人： | 中国振华电子集团宇光电工有限公司（国营第七七一厂） |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 | 代理人： | 王娟;郭防 |
| 地址： | 550018 贵*** | 国省代码： | 贵州;52 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，其特征在于：包括线圈（1），线圈（1）开口端为下方，线圈（1）碗底端为上方，线圈（1）上方开有二个或二个以上的凹槽（2），凹槽（2）与线圈（1）侧壁上的斜槽（3）连接，斜槽（3）沿线圈（1）圆周向上旋转，线圈（1）下方的表面为完整圆环。本发明通过线圈开槽的变化，保持了线圈本身的完整性，增强线圈强度，减少了变形，使得焊接造成的形变影响变小，避免形变造成接触电阻偏大的影响；并且通过改变触头与线圈定位方式，提高了定位的可靠性，并且使得装配过程更加简便快速，真空灭弧室的质量也得到提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 灭弧室 新型 线圈 结构 | ||
【主权项】：
一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，其特征在于：包括线圈（1），线圈（1）开口端为下方，线圈（1）碗底端为上方，线圈（1）上方开有二个或二个以上的凹槽（2），凹槽（2）与线圈（1）侧壁上的斜槽（3）连接，斜槽（3）沿线圈（1）圆周向上旋转，线圈（1）下方的表面为完整圆环。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国振华电子集团宇光电工有限公司（国营第七七一厂），未经中国振华电子集团宇光电工有限公司（国营第七七一厂）许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210258949.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
