[发明专利]一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构无效

专利信息
申请号: 201210258949.2 申请日: 2012-07-25
公开(公告)号: CN102751131A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 张毅;康一;周吉冰;张梅;陈志会 申请(专利权)人: 中国振华电子集团宇光电工有限公司(国营第七七一厂)
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 代理人: 王娟;郭防
地址: 550018 贵*** 国省代码: 贵州;52
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 灭弧室 新型 线圈 结构
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构,属于真空灭弧室技术领域。

背景技术

真空灭弧室是真空开关的关键原件,担负着控制电弧的任务,电路的切断与关合都靠真空灭弧室中的线圈触头来完成,如图5是现有的小型真空灭弧室中,以触头座开口端为上方,其灭弧所用的杯状纵磁触头的触头座线圈构成包括一个触头座,圆环上方开有凹槽,凹槽下开有沿圆环圆周旋转的斜槽,斜槽为贯通结构,在加工及焊接过程中,容易发生端面变形影响焊接质量,造成接触电阻偏大,影响开断效果。 

发明内容

本发明的目的在于:

提供一种新的真空灭弧室用的触头座线圈,杯状圆环表面为完整圆环,无开槽,新型触头座线圈结构提高了与触头焊接面的表面质量,使后期装配焊接性能得到有效改善,提高产品的一次合格率。

本发明是这样构成的:一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构,包括线圈,线圈开口端为下方,线圈碗底端为上方,线圈上方开有二个或二个以上的凹槽,凹槽与线圈轴线呈一斜角,凹槽与线圈侧壁上的斜槽连接,斜槽沿线圈圆周向上旋转,线圈下方的表面为完整圆环。

上述所述斜槽与线圈下方圆环表面的距离为0.5-3mm。

上述线圈上方表面设有一个或一个以上的定位凸块,触头上开有和线圈上定位凸块个数相同,位置对应的定位凹槽,通过定位凸块和定位凹槽的配合达到触头和线圈定位。

上述线圈碗型结构内连接加强筋,线圈圆环表面和杯托连接,杯托中心和加强筋连接。

与现有技术相比,本发明在原结构上从线圈碗底开始开槽,斜槽为非贯通结构,斜槽离下方圆环表面距离为0.5-3mm,这样就保留了圆环表面本身的完整度,使得线圈本身与触头的接触面平面度提高,在加工及焊接过程中,由于杯状圆环本身坚固性变强,减少了变形的可能性,使得焊接造成的形变影响变小,避免形变造成接触电阻偏大影响开断效果,同时由于定位方式的改变,定位准确度及精确度得到提高,从源头提高产品的合格率。

附图说明

附图1为本发明的结构示意图;

附图2为本发明线圈-触头装配示意图;

附图3本发明线圈结构示意图;

附图4为本发明触头结构示意图;

附图5为现有线圈结构示意图。

附图中标记为:1-线圈,2-凹槽,3-斜槽,4-定位凸块,5-触头,6-定位凹槽,7-加强筋,8-杯托。

具体实施方式:一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构,如图1和2所示,该纵磁线圈结构由线圈1、触头5、加强筋7和杯托8组成。触头5和线圈1通过钎焊连接,触头5可以为开槽结构,也可以为非开槽结构,如图2和图3所示。线圈1和杯托8通过钎焊连接,加强筋7安装在线圈1和杯托8之间,起增加强度的作用;线圈1为碗型构造,线圈1碗底开有二个或者二个以上的凹槽2,凹槽2与线圈1轴线呈一斜角,凹槽2与斜槽3相连,斜槽3加工时在线圈下方为非贯通,斜槽3下方与线圈1开口端表面的距离为0.5-3毫米。装配时线圈1上方可以直接与触头5相连,线圈1下方通过杯托8与导电杆相连。这样线圈2开口端为完整的圆环结构,与触头的接触面平面度提高,在加工及焊接过程中,由于杯状圆环本身坚固性增加,减少了变形的可能性,使得装配过程更加简便快速,工作时由于触头系统本身的坚固度提高,使得真空灭弧室的使用寿命得到提高;触头5焊接面有一个或一个以上的定位凹槽6;线圈1碗底上有和触头5上定位凹槽6个数相同,位置对应的定位凸块4;触头5与线圈1之间的定位通过触头5上定位凹槽6和线圈1的定位凸块4实现,提高了定位精度和可靠性,定位方式为点定位。

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