[发明专利]一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构

权利要求书

1.一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，其特征在于：包括线圈（1），线圈（1）开口端为下方，线圈（1）碗底端为上方，线圈（1）上方开有二个或二个以上的凹槽（2），凹槽（2）与线圈（1）侧壁上的斜槽（3）连接，斜槽（3）沿线圈（1）圆周向上旋转，线圈（1）下方的表面为完整圆环。

2.根据权利要求书1所述的一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，其特征在于：所述斜槽（3）与线圈（1）下方圆环表面的距离为0.5-3mm。

3.根据权利要求书1所述的一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，其特征在于：所述线圈（1）上方表面设有一个或一个以上的定位凸块（4），触头（5）上开有和线圈（1）上定位凸块（4）个数相同，位置对应的定位凹槽（6），通过定位凸块（4）和定位凹槽（6）的配合达到触头（5）和线圈（1）定位。

4.根据权利要求书1所述的一种真空灭弧室新型纵磁线圈结构，其特征在于：所述线圈（1）碗型结构内连接加强筋（7），线圈（1）圆环表面和杯托（8）连接，杯托（8）中心和加强筋（7）连接。