[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法

摘要

本发明提供一种能够防止由于排出头以及保持该排出头的喷嘴臂而引起的污染的基板处理装置以及基板处理方法。通过旋转驱动部（63）使保持排出头的喷嘴臂（62）在基板W的上方的处理位置与包围基板W的处理罩的外侧的待机位置之间移动。在对基板W进行了清洗处理的喷嘴臂（62）位于待机位置时，从喷淋喷嘴（71）向斜下方的喷嘴臂（62）喷出清洗液。通过使3个喷嘴臂（62）升降以使3个喷嘴臂（62）穿过向斜下方喷出的清洗液的液流，来依次清洗3个喷嘴臂（62）。然后，从干燥气体喷嘴（76）向喷嘴臂（62）吹送氮气，来使附着于喷嘴臂的清洗液干燥。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，具有：基板保持单元，将基板保持为大致水平姿势并使上述基板旋转，罩，包围上述基板保持单元的周围，喷嘴臂，在前端具有用于向被上述基板保持单元保持的基板排出处理液的排出头，旋转驱动部，使上述喷嘴臂旋转，以使上述排出头在位于被上述基板保持单元保持的基板的上方的处理位置与位于上述罩的外侧的待机位置之间移动，喷嘴臂清洗单元，至少清洗上述喷嘴臂的特定部位，该特定部位是指，在上述排出头移动到上述处理位置时与被上述基板保持单元保持的基板相向的部位。