[发明专利]基片上料机械手、基片上料系统和PECVD设备有效
| 申请号: | 201210200997.6 | 申请日: | 2012-06-18 |
| 公开(公告)号: | CN103510065A | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
| 发明(设计)人: | 张文 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;B25J11/00;B25J19/02;B65G47/91 |
| 代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 黄德海 |
| 地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种基片上料机械手,包括:支架;手臂,所述手臂可上下旋转地连接在所述支架上;基片吸附件,所述基片吸附件设在所述手臂的一端上用于吸附基片;和旋转检测装置,所述旋转检测装置用于检测所述手臂的旋转运动。根据本发明实施例的基片上料机械手,通过将手臂可旋转地连接在支架上,使得当基片上料机械手运动受制时可实现与上料台的互锁设计,及时避免了手臂或基片吸附件的损坏,降低了维修和替换成本,并且不耽误工作进程,提高了工作效率。本发明还公开了一种基片上料系统和具有其的PECVD设备。 | ||
| 搜索关键词: | 基片上料 机械手 系统 pecvd 设备 | ||
【主权项】:
一种基片上料机械手,其特征在于,包括:支架;手臂,所述手臂可上下旋转地连接在所述支架上;基片吸附件,所述基片吸附件设在所述手臂的一端上用于吸附基片;和旋转检测装置,所述旋转检测装置用于检测所述手臂的旋转运动。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





