[发明专利]基片上料机械手、基片上料系统和PECVD设备有效
| 申请号: | 201210200997.6 | 申请日: | 2012-06-18 |
| 公开(公告)号: | CN103510065A | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
| 发明(设计)人: | 张文 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;B25J11/00;B25J19/02;B65G47/91 |
| 代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 黄德海 |
| 地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基片上料 机械手 系统 pecvd 设备 | ||
1.一种基片上料机械手,其特征在于,包括:
支架;
手臂,所述手臂可上下旋转地连接在所述支架上;
基片吸附件,所述基片吸附件设在所述手臂的一端上用于吸附基片;和
旋转检测装置,所述旋转检测装置用于检测所述手臂的旋转运动。
2.根据权利要求1所述的基片上料机械手,其特征在于,所述旋转检测装置包括:用于测量所述手臂旋转角度的传感器。
3.根据权利要求1所述的基片上料机械手,其特征在于,所述手臂通过枢转轴连接在所述支架上。
4.根据权利要求3所述的基片上料机械手,其特征在于,所述传感器设在所述枢转轴处。
5.根据权利要求1所述的基片上料机械手,其特征在于,所述旋转检测装置包括:弹性件,所述弹性件固定连接至所述手臂的另一端。
6.一种基片上料系统,其特征在于,包括:
料盒,所述料盒内具有用于放置基片的腔室;
可升降的上料台;
传送带,所述传送带将所述料盒传送到所述上料台上;
根据权利要求1-5中任一项所述的基片上料机械手,其中所述基片上料机械手伸入所述腔室中进行取片;和
第一控制单元,所述第一控制单元用于控制所述基片上料机械手的运动;以及
第二控制单元,所述第二控制单元用于控制所述上料台的升降。
7.根据权利要求6所述的基片上料系统,其特征在于,所述第二控制单元在所述旋转检测装置检测到所述手臂旋转时停止所述上料台的升降。
8.根据权利要求6所述的基片上料系统,其特征在于,所述基片上料系统还包括:
升降驱动装置,所述升降驱动装置设在所述上料台底部且与所述第二控制单元电连接以驱动所述上料台的升降。
9.根据权利要求8所述的基片上料系统,其特征在于,所述升降驱动装置为丝杠。
10.一种PECVD设备,其特征在于,包括根据权利要求6-9中任一项所述的基片上料系统。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





