[发明专利]KPTA生产中的深度氧化方法及深度氧化装置

摘要

本发明涉及一种KPTA生产中的深度氧化方法及深度氧化装置，所述方法包括如下步骤：（1）氧化，催化条件下在溶剂HAC中用氧气氧化PX；（2）深度氧化，将步骤（1）氧化得到的浆料用氧气进一步深度氧化以提高TA含量；（3）结晶、分离，从步骤（2）得到的浆料中结晶、分离TA。所述系统包括氧化反应器、反应器出料桶、深度氧化反应器和结晶分离系统，所述氧化反应器的浆料出口连接出料桶的浆料进口，所述出料桶的浆料出口连接深度氧化反应器的浆料进口，所述深度氧化反应器的浆料出口连接所述结晶分离系统的浆料进口。本发明的方法既能保证产品质量，还降低了对设备的要求，其系统省去了搅拌设备，降低了设备投资，并有效降低了电能消耗。

主权项

一种KPTA生产中的深度氧化方法，包括如下步骤：（1）氧化后氧化：将氧化反应器排出的浆料从出料桶的中部送入所述出料桶，将含氧气体（例如压缩空气与深度氧化尾气）从所述出料桶的下部进入，使所述含氧气体从所述出料桶的底部鼓泡搅混浆料，以促使所述浆料中的固体悬浮物在含氧气体的搅混下不沉淀，所述浆料中包括PT酸和4‑CBA在内的氧化中间产物在所述出料桶中与氧继续进行后氧化反应；（2）深度氧化：将所述出料桶的底部浆料从所述出料桶底部的浆料出口排出，经过加压加温后送入深度氧化反应器，将含氧气体从所述深度氧化反应器的下部送入所述深度氧化反应器，使所述含氧气体从所述深度氧化反应器的底部鼓泡搅混浆料，以促使所述浆料中的固体悬浮物在含氧气体的搅混下不沉淀，所述浆料中包括PT酸和4‑CBA在内的氧化中间产物在所述深度氧化反应器中与氧继续进行氧化，所述深度氧化反应器在压力控制下排出深度氧化尾气，在液位控制下排出深度氧化反应完成后的浆料。