[发明专利]一种蓝宝石衬底的清洗方法无效
申请号: | 201210101984.3 | 申请日: | 2012-03-31 |
公开(公告)号: | CN102632055A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 储耀卿;石剑舫;王善建;石晓鑫;朱文超 | 申请(专利权)人: | 江苏鑫和泰光电科技有限公司 |
主分类号: | B08B7/04 | 分类号: | B08B7/04;B08B13/00 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 路接洲 |
地址: | 213000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种蓝宝石衬底的清洗方法,蓝宝石外延衬底表面在经过除有机杂质、无机金属杂质清洗后,由于化学机械抛光(CMP)的原因,衬底表面品质差异较大,氧化层和亚表面损伤存在差异,蓝宝石衬底经常根据衬底表面清洗情况分级,且在做图形化(PSS)衬底或者直接做异质外延时,产品的一致性存在差异,导致产品最终的良率下降。本发明的特点在于蓝宝石衬底经过除有机杂质、无机金属杂质清洗后,再经过氢氮等离子体的清洗。经过本发明的清洗方法后,蓝宝石衬底表面无氧化层杂质、损伤层以及无亚表面损伤层,衬底表面质量一致性好,应用于做PSS衬底良率高或者进行异质外延的GaN层结晶质量高。 | ||
搜索关键词: | 一种 蓝宝石 衬底 清洗 方法 | ||
【主权项】:
一种蓝宝石衬底的清洗方法,是在蓝宝石衬底经过除有机杂质和无机金属杂质清洗后,再经过氢氮等离子体的清洗,其特征在于包括以下步骤:(1)将蓝宝石衬底放置于电子纯的有机溶剂中用兆声波清洗10分钟;(2)用电子级纯水对步骤(1)清洗后的蓝宝石衬底片以喷淋、溢流的方式清洗15分钟;(3)用NH3·H2O∶H2O2∶H2O=1∶1∶3~8的混合液对步骤(2)清洗后的蓝宝石衬底清洗10分钟;(4)用电子级纯水对步骤(3)清洗后的蓝宝石衬底片以喷淋、溢流的方式清洗15分钟;(5)用HCl∶H2O2∶H2O=1∶1∶3~8的混合液对步骤(4)清洗后的蓝宝石衬底清洗10分钟;(6)用电子级纯水对步骤(5)清洗后的蓝宝石衬底片以喷淋、溢流的方式清洗15分钟;(7)用H2SO4和H3PO4的混合液对步骤(6)清洗后的蓝宝石衬底清洗10分钟;(8)用电子级纯水对步骤(7)清洗后的蓝宝石衬底片以喷淋、溢流的方式清洗15分钟;(9)用6N的N2气对步骤(8)清洗后的蓝宝石衬底片在甩干机机内甩干、吹干。(10)经过步骤(9)清洗的蓝宝石衬底片放置于装配有反射高能电子衍射仪RHEED的电子回旋共振等离子体增强金属有机化学气相沉积ECR‑PEMOCVD装置内,通入6N的N2和H2的混合气进行清洗。
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