[发明专利]具有超级结的功率晶体管组件的制作方法无效
申请号: | 201210090761.1 | 申请日: | 2012-03-30 |
公开(公告)号: | CN103247534A | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 林永发;徐守一;吴孟韦;张家豪 | 申请(专利权)人: | 茂达电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/336 | 分类号: | H01L21/336;H01L21/265 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种功率晶体管组件的制作方法。首先,提供具有一第一导电类型的一半导体基底,并在半导体基底中形成至少一沟槽。接着,在沟槽中填入一掺杂物来源层,并进行一第一热趋入工艺,在半导体基底中分别形成具有一第二导电类型的两个扩散掺杂区,其中各扩散掺杂区邻近沟槽的掺杂浓度不同于各扩散掺杂区远离沟槽的掺杂浓度。然后,移除掺杂物来源层,并进行一斜角度离子植入工艺与一第二热趋入工艺,以调整邻近沟槽的各扩散掺杂区的掺杂浓度。 | ||
搜索关键词: | 具有 超级 功率 晶体管 组件 制作方法 | ||
【主权项】:
一种具有超级结的功率晶体管组件的制作方法,其特征在于,包括:提供一半导体基底,具有一第一导电类型;在所述半导体基底中形成至少一沟槽;在所述沟槽中填入一掺杂物来源层,其中所述掺杂物来源层包括多个掺杂物,且所述掺杂物具有不同于所述第一导电类型的ㄧ第二导电类型;进行一第一热趋入工艺,将所述掺杂物扩散到所述半导体基底中,以在所述沟槽两侧的所述半导体基底中分别形成两个扩散掺杂区,其中各所述扩散掺杂区邻近所述沟槽的侧壁的掺杂浓度不同于各所述扩散掺杂区远离所述沟槽的侧壁的掺杂浓度;移除所述掺杂物来源层;以及进行一斜角度离子植入工艺与一第二热趋入工艺,以调整邻近所述沟槽的侧壁的各所述扩散掺杂区的掺杂浓度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造