[发明专利]一种延长光刻胶有效使用时间的方法无效
| 申请号： | 201210014965.7 | 申请日： | 2012-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN102540706A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 何伟明;朱治国 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 王敏杰 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种延长光刻胶有效使用时间的方法。本发明一种延长光刻胶有效使用时间的方法，通过设置冷藏装置和在光阻瓶与排泡存储罐之间设置光阻加热装置，不仅能将光刻胶的存储温度保持在10℃以下，从而延长光刻胶的有效时间，而且在光刻胶使用时，经过光阻加热装置使得光刻胶能及时恢复至常温，而不影响其使用，从而能有效的避免光刻胶的浪费，节约了工艺制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 延长 光刻 有效 使用时间 方法 | ||
【主权项】：
一种延长光刻胶有效使用时间的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：于涂胶机台上设置一冷藏装置，光阻瓶放置于该冷藏装置中，以保持光阻瓶中的光刻胶温度小于10℃；步骤S2：于光阻瓶和排泡存储罐之间设置光阻加热装置，以使经过的光刻胶温度上升至常温；步骤S3：光刻胶从光阻瓶通过管道运输，依次经过光阻加热装置、排泡存储罐、过滤器和光阻泵，并利用精确控温系统保证从光阻泵至喷头的光刻胶在使用时其温度为常温。
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