[发明专利]带有热交换器的热扩散腔室无效
| 申请号: | 201180068828.5 | 申请日: | 2011-12-22 |
| 公开(公告)号: | CN103547703A | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
| 发明(设计)人: | M.R.埃里克森;H.J.普尔;N.贾姆施迪;A.W.卡斯特三世;A.L.丁古斯 | 申请(专利权)人: | 普尔·文图拉公司 |
| 主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00;C23C16/46;F27B5/16 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 原绍辉;杨炯 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | 本发明涉及一种扩散腔室,在太阳能电池板基板处理期间排除了气态硒化物物种向大气的迁移和泄露,该腔室包括:框架,支承着一种存放腔室,存放腔室内约束有一种密封处理腔室;与密封处理腔室的外部成流体连通的第一流体处置系统/热源模块;以及,与密封处理腔室的内部成流体连通的第二流体处置系统/热源模块。 | ||
| 搜索关键词: | 带有 热交换器 扩散 | ||
【主权项】:
一种热扩散腔室,包括:支承着一种存放腔室的框架;约束于所述存放腔室内的密封处理腔室;安置于所述存放腔室与所述处理腔室之间的热源模块;至少一个流体入口箱,与所述密封处理腔室的外部成流体连通,所述流体入口箱包括至少一种流动调整结构以控制流体从流体源围绕所述密封处理腔室的外部的流动;热传感器组件,安置在与所述密封热腔室的壁接触相邻的所述密封处理腔室的内部,所述热传感器组件测量所述密封处理腔室的内部温度值;以及控制器,与所述流动调整结构和所述热传感器组件连通,所述控制器设置所述流动调整结构的流动位置以响应于所述密封处理腔室的测量内部温度值来调节流体从所述流体源通过所述流体入口箱并且围绕所述密封处理腔室的外部的流动。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





