[发明专利]膜曝光方法有效
| 申请号： | 201180064668.7 | 申请日： | 2011-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN103314328A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 新井敏成;桥本和重 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 袁波;李浩 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在膜基材（20）上的曝光图案形成用区域形成有曝光材料膜（21）的膜（2）中，在其宽度方向上的两侧缘部的至少一方涂敷有色的烧结材料、有色的光固化性材料或有色的墨水而形成侧部涂敷膜（22），通过定位标记形成部（14）照射激光而形成定位标记（2a），使用该定位标记（2a）检测膜曲折，调整掩模（12）的位置。由此，在对膜基材上的曝光图案形成区域形成有曝光材料膜的膜进行连续曝光时，定位标记的形成及形成的定位标记的检测容易，能高精度地校正膜的曲折，能稳定地进行曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 | ||
【主权项】：
一种膜曝光方法，通过经由掩模对在膜基材上的曝光图案形成用区域形成有曝光材料膜的膜的所述曝光材料膜照射曝光光，从而对所述曝光材料膜曝光所述掩模的图案，所述膜曝光方法的特征在于，供给在所述膜基材的宽度方向上的两侧缘部的至少一方涂敷有色的烧结材料、有色的光固化性材料或有色的墨水而形成有侧部涂敷膜的膜，对该侧部涂敷膜照射定位标记用激光而形成定位标记，使用该定位标记检测膜曲折，调整所述掩模的位置。
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