[发明专利]膜曝光方法

说明书

技术领域

本发明涉及膜曝光方法，特别是涉及对在膜基材上的曝光图案形成用区域形成有曝光材料膜的膜进行连续曝光时，能高精度地校正膜的曲折，稳定地进行曝光的膜曝光方法。

背景技术

以往，例如在对平板状的基板等构件进行曝光时，为了高精度地管理其曝光位置，例如使用在表面上施加了规定的标记的基板，根据该标记来决定在曝光中使用的掩模的位置（例如，专利文献1至3），或者在载置基板的托板（pallet）设置定位用的销（pin）（例如，专利文献4）。

然而，在像卷对卷（roll to roll）方式那样曝光对象是膜且将该膜连续地供给到曝光装置内的情况下，难以应用上述那样的平板状构件的曝光中的定位技术。即，在卷对卷方式的膜的生产线上，成为曝光对象的膜例如在图9所示的工序中供给到曝光装置1内，与对平板状的基板等进行曝光的情况不同，对于传送中的膜1，由于其柔软性而容易产生起伏。

此外，在如图9所示的卷对卷方式的膜的生产线上，在所有的加工工序中都进行着利用了膜的柔软性的处理。即，膜2从供给卷盘（reel）80退卷而供给到生产线，在预处理部3中例如实施干洗及表面改性等预处理，用狭缝式涂敷机（slit coater）4在表面涂敷规定的曝光材料之后，所涂敷的曝光材料在干燥装置5中被干燥。然后，在表面上形成有曝光材料膜的膜2被供给到曝光装置1，曝光材料膜在曝光装置1中被曝光。此时，膜2在各装置间例如被辊9所支承，通过其旋转而被传送。因此，将在专利文献1至4公开的技术应用于卷对卷方式的膜2的曝光是困难的。

在以卷对卷方式对膜进行曝光的情况下，为了提高其曝光精度，维持膜与掩模的相对的位置关系是重要的。例如，在专利文献5中公开了掩模相对于膜的定位技术。即，在专利文献5的技术中，在对一个膜分两次进行曝光的情况下，对膜实施第一次的曝光而形成图案，然后，在第二次的曝光时，通过用线阵CCD（Line CCD）检测由第一次的曝光形成的图案，从而调节掩模的位置。另外，像在该专利文献5的图2示出的那样，膜的宽度方向上的两侧缘部不是曝光区域。

图10是作为一个例子示出与一个掩模12对应地各相向配置一对出射曝光光的曝光光源11，从相互不同的方向照射曝光光的型式的以往的曝光装置的图。关于这种型式的曝光装置，例如在液晶显示器等的玻璃基板上或偏振膜等的膜基材料上形成无色透明的取向膜时，在取向材料膜的曝光中使用。即，在通过由该曝光装置进行的曝光形成取向膜的情况下，将在表面形成有无色透明的取向材料膜的曝光对象构件供给到曝光装置内，按规定的每个区域从不同的方向照射曝光光，形成在不同的方向上取向的取向膜。根据该曝光装置，例如将与膜的一个图素（picture element）对应的区域在其宽度方向上进行二分割而进行曝光，或者按与像素（pixel）对应的每个区域在其宽度方向上对膜进行分割而进行曝光，能按各分割区域的每一个形成取向方向不同的取向膜。根据该取向膜的取向方向的特征，能使夹持在玻璃基板之间的液晶分子的施加电压时的动作根据取向膜的取向方向而不同，由此，能扩展显示装置的视角，此外，能将制造的膜作为3D（Three　Dimensional：三维）显示器等的偏振膜使用，近来，这样的膜的曝光技术受到瞩目。

在通过这样的曝光装置对膜进行曝光时，在膜中容易在传送过程中产生起伏，由此，存在曝光位置产生偏差的问题。为了减低该曝光位置的偏差的影响，例如，在像上述那样的在膜的移动方向上并列设置有多个光源的曝光装置中，例如如图10及图11所示，不是使用一个掩模进行曝光，而是使用多个掩模12，将各掩模12以在曝光对象构件的移动方向及与此垂直的宽度方向上排列的方式呈之字形配置，按各掩模的每一个设置曝光光源11进行曝光。而且，使来自曝光光源11的曝光光透射各掩模121至124，如图11所示，在膜供给过来的上游侧，通过相互隔离地配置的掩模121及122在曝光区域A及C对膜2进行曝光，在下游侧，通过掩模123对曝光区域A及C之间的区域B进行曝光，通过掩模124对与曝光区域C邻接的区域D进行曝光。由此，能在膜2的大致整个面高精度地形成进取向分割了的图案。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开昭62－294252号公报；

专利文献2：特开2005－283896号公报；

专利文献3：特开2005－316411号公报；

专利文献4：国际公开第08/139643号；

专利文献5：特开2006－292919号公报。

发明内容