[发明专利]膜曝光方法

权利要求书

1.一种膜曝光方法，通过经由掩模对在膜基材上的曝光图案形成用区域形成有曝光材料膜的膜的所述曝光材料膜照射曝光光，从而对所述曝光材料膜曝光所述掩模的图案，所述膜曝光方法的特征在于，

供给在所述膜基材的宽度方向上的两侧缘部的至少一方涂敷有色的烧结材料、有色的光固化性材料或有色的墨水而形成有侧部涂敷膜的膜，对该侧部涂敷膜照射定位标记用激光而形成定位标记，使用该定位标记检测膜曲折，调整所述掩模的位置。

2.根据权利要求1所述的膜曝光方法，其特征在于，

在使卷绕在供给卷盘的膜基材从所述供给卷盘移动到收卷卷盘的期间中的所述定位标记用激光的照射前，在所述膜基材上形成所述曝光材料膜和/或所述侧部涂敷膜。

3.根据权利要求1或2所述的膜曝光方法，其特征在于，

所述掩模分别配置在所述膜的移动方向上的上游侧及下游侧，在所述膜的移动方向上的上游侧及下游侧对所述曝光材料膜分别曝光所述上游侧掩模和下游侧掩模的图案，

在与所述膜的移动方向上的所述上游侧掩模的位置对应的位置在所述侧部涂敷膜形成所述定位标记，在与所述膜的移动方向上的所述下游侧掩模的位置对应的位置检测所述定位标记，由此，检测所述膜从利用所述上游侧掩模的曝光区域移动到利用所述下游侧掩模的曝光区域为止产生的膜曲折，将下游侧掩模相对于所述膜的相对的位置校正由于所述膜曲折而偏离的量。