[发明专利]电子器件有效

专利信息
申请号: 201180062771.8 申请日: 2011-11-25
公开(公告)号: CN103283026A 公开(公告)日: 2013-09-04
发明(设计)人: M·杰克逊;C·罗穆斯黛尔;J·卓迈尔 申请(专利权)人: 造型逻辑有限公司
主分类号: H01L27/28 分类号: H01L27/28;H01L51/05
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 冯玉清
地址: 英国*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 一种包括晶体管阵列的器件,该器件包括:位于衬底上的层堆叠中的下层级和上层级处的图案化导电层,所述图案化导电层限定所述晶体管阵列的栅极导体和源-漏电极;其中,所述层堆叠还包括在所述下层级之下的电介质层以及在所述电介质层之下的另一图案化导电层;其中,所述另一图案化导电层既经过所述电介质层提供所述晶体管阵列中的电功能,又限定开口,所述电介质层经由所述开口用于增加所述器件衬底与在所述下层级处的所述图案化导电层之间的粘接强度。
搜索关键词: 电子器件
【主权项】:
一种包括晶体管阵列的器件,该器件包括:位于衬底上的层堆叠中的下层级和上层级处的图案化导电层,所述图案化导电层限定所述晶体管阵列的栅极导体和源‑漏电极;其中,所述层堆叠还包括在所述下层级之下的电介质层以及在所述电介质层之下的另一图案化导电层;其中,所述另一图案化导电层既经过所述电介质层提供所述晶体管阵列中的电功能,又限定开口,所述电介质层经由所述开口用于增加所述器件衬底与在所述下层级处的所述图案化导电层之间的粘接强度。
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