[发明专利]基于二氮杂二烯的金属化合物、其生产方法和使用其形成薄膜的方法有效
申请号: | 201180055167.2 | 申请日: | 2011-11-17 |
公开(公告)号: | CN103298971A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 韩元锡 | 申请(专利权)人: | UP化学株式会社 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C23C16/44 |
代理公司: | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人: | 李献忠 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及一种基于二氮杂二烯(DAD)的金属化合物、及其生产方法和使用其形成薄膜的方法。提供气体状态的本发明的基于二氮杂二烯(DAD)的金属化合物,以通过化学气相沉积或原子层沉积制成金属薄膜或金属氧化物薄膜。特别地,本发明的基于二氮杂二烯的有机金属化合物具有的优势在于它可以形成金属薄膜或金属氧化物薄膜,且能在不使用剧毒的配位体的情况下,以相对廉价的方式生产。 | ||
搜索关键词: | 基于 二氮杂二烯 金属 化合物 生产 方法 使用 形成 薄膜 | ||
【主权项】:
1.一种由下列化学式1至4中任一个表示的基于二氮杂二烯(DAD)的金属化合物:<化学式1>
<化学式2>
<化学式3>
<化学式4>
其中,在所述化学式1至4中,M表示Ni、Co或Mn,以及R1至R4中的每个各自独立地表示氢,或具有碳原子数范围为从1至6的直链或支链的烷基。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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