[发明专利]基于二氮杂二烯的金属化合物、其生产方法和使用其形成薄膜的方法

权利要求书

1.一种由下列化学式1至4中任一个表示的基于二氮杂二烯（DAD）的金属化合物：

<化学式1>

<化学式2>

<化学式3>

<化学式4>

其中，在所述化学式1至4中，

M表示Ni、Co或Mn，以及

R¹至R⁴中的每个各自独立地表示氢，或具有碳原子数范围为从1至6的直链或支链的烷基。

2.根据权利要求1所述的基于二氮杂二烯的金属化合物，

其中，所述基于二氮杂二烯的金属化合物由所述化学式1表示，所述化学式1中，R¹和R²是异丙基或叔丁基，且R³和R⁴是氢。

3.根据权利要求1所述的基于二氮杂二烯的金属化合物，

其中，所述基于二氮杂二烯的金属化合物由所述化学式2表示，所述化学式2中，R¹和R²是异丙基或叔丁基，且R³是氢。

4.根据权利要求1所述的基于二氮杂二烯的金属化合物，

其中，所述基于二氮杂二烯的金属化合物由所述化学式3表示，所述化学式3中，R¹和R²是异丙基或叔丁基，且R³和R⁴是氢。

5.根据权利要求1所述的基于二氮杂二烯的金属化合物，

其中，所述基于二氮杂二烯的金属化合物由所述化学式4表示，所述化学式4中，R¹和R²是异丙基或叔丁基，且R³和R⁴是氢。

6.一种用于生产由下面的化学式1表示的基于二氮杂二烯的金属化合物的方法，如下面的反应式1所示，该方法包括：

使由下面的化学式5表示的二氮杂二烯中性配位体与氢还原剂反应，以合成二氮杂二烯诱导的二价负离子；以及

使由下面的所述化学式5表示的所述二氮杂二烯中性配位体与由MX₂表示的二价的金属卤素化合物反应，然后向其中加入所述二氮杂二烯诱导的二价负离子，从而使它们之间反应：

<化学式1>

<化学式5>

<反应式1>

其中

X表示Cl、Br或I，

M表示Ni、Co或Mn，以及

R¹至R⁴中的每个各自独立地表示氢，或具有碳原子数范围为从1至6的直链或支链的烷基。

7.一种用于生产由下面的化学式2表示的基于二氮杂二烯的金属化合物的方法，如下面的所述反应式2所示，该方法包括：

使由下面的化学式6表示的二氮杂二烯中性配位体与氢还原剂反应，以合成二氮杂二烯诱导的一价负离子；以及

加入由MX₂表示的二价的金属卤素化合物至所述二氮杂二烯诱导的一价负离子，从而使它们之间反应：

<化学式2>

<化学式6>

<反应式2>

其中

X表示Cl、Br或I，

M表示Ni、Co或Mn，以及

R¹至R⁴中的每个各自独立地表示氢，或具有碳原子数范围为从1至6的直链或支链的烷基。