[发明专利]反应器的清洗方法有效
| 申请号： | 201180050593.7 | 申请日： | 2011-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN103210066A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 高桥信也;田坂和彦;田中祐一;岩间真理绘 | 申请（专利权）人： | 日本石油天然气·金属矿物资源机构;国际石油开发帝石株式会社;吉坤日矿日石能源株式会社;石油资源开发株式会社;克斯莫石油株式会社;新日铁住金工程技术株式会社 |
| 主分类号： | C10G75/00 | 分类号： | C10G75/00;B08B3/08;B08B9/08;C10G2/00;C10G47/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的反应器的清洗方法，其特征在于，在填充有催化剂且停止了蜡馏分的供给的蜡馏分加氢裂化装置中流通溶剂，所述溶剂含有选自由烃和植物油组成的组中的至少1种油、硫分小于5ppm且在15℃下为液态。 | ||
| 搜索关键词： | 反应器 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种反应器的清洗方法，其特征在于，在填充有催化剂且停止了蜡馏分的供给的蜡馏分加氢裂化装置中流通溶剂，所述溶剂含有选自由烃和植物油组成的组中的至少1种油、硫分小于5ppm且在15℃下为液态。
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