[发明专利]反应器的清洗方法有效
| 申请号： | 201180050593.7 | 申请日： | 2011-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN103210066A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 高桥信也;田坂和彦;田中祐一;岩间真理绘 | 申请（专利权）人： | 日本石油天然气·金属矿物资源机构;国际石油开发帝石株式会社;吉坤日矿日石能源株式会社;石油资源开发株式会社;克斯莫石油株式会社;新日铁住金工程技术株式会社 |
| 主分类号： | C10G75/00 | 分类号： | C10G75/00;B08B3/08;B08B9/08;C10G2/00;C10G47/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反应器 清洗 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种反应器的清洗方法，其特征在于，在填充有催化剂且停止了蜡馏分的供给的蜡馏分加氢裂化装置中流通溶剂，所述溶剂含有选自由烃和植物油组成的组中的至少1种油、硫分小于5ppm且在15℃下为液态。
2.根据权利要求1所述的反应器的清洗方法，其特征在于，从自所述蜡馏分加氢裂化装置流出的所述溶剂中采集判定用试样，判定在规定的温度下所述判定用试样中有无蜡分的析出，有所述析出时继续所述溶剂的流通、无所述析出时结束所述溶剂的流通。
3.根据权利要求1或2所述的反应器的清洗方法，其特征在于，所述溶剂在所述蜡馏分加氢裂化装置中流通后，在配设于所述蜡馏分加氢裂化装置下游的精馏塔中被分馏，并再次在所述蜡馏分加氢裂化装置中流通。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的反应器的清洗方法，其特征在于，所述溶剂是由GTL工艺制造的烃。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的反应器的清洗方法，其特征在于，所述溶剂是由GTL工艺制造的轻油馏分。
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