[发明专利]使用了微透镜阵列的扫描曝光装置有效
| 申请号： | 201180040182.X | 申请日： | 2011-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN103052917A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 水村通伸 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 毛立群;王忠忠 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种使用了微透镜阵列的扫描曝光装置，即使起因于曝光装置特性和温度条件等制造条件的变动而使得被曝光基板的大小产生变动，也能够使掩模图案的像对准规定位置。在扫描曝光装置中，多个微透镜阵列2在要曝光的基板1的上方排列在与扫描方向垂直的方向上并被支承基板支承。而且，各微透镜阵列以能够相对于其排列方向从平行于曝光基板的方向倾斜的方式被支承基板支承。这些微透镜阵列的倾斜角度构成为关于上述排列方向逐渐变大或变小。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 透镜 阵列 扫描 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种使用了微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，具有：多个微透镜阵列，配置在要曝光的基板的上方，二维地配置有微透镜；掩模，配置在该微透镜阵列的上方，形成有规定的曝光图案；曝光光源，对该掩模照射曝光光线；以及移动装置，使所述微透镜阵列与所述基板以及所述掩模在一个方向上相对地移动，所述多个微透镜阵列在支承基板上配置在与所述一个方向垂直的方向上，各微透镜阵列以能够关于其配置方向从平行于被曝光基板的方向相对于所述支承基板倾斜的方式被支承。
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