[发明专利]使用了微透镜阵列的扫描曝光装置

权利要求书

1.一种使用了微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，具有：多个微透镜阵列，配置在要曝光的基板的上方，二维地配置有微透镜；掩模，配置在该微透镜阵列的上方，形成有规定的曝光图案；曝光光源，对该掩模照射曝光光线；以及移动装置，使所述微透镜阵列与所述基板以及所述掩模在一个方向上相对地移动，所述多个微透镜阵列在支承基板上配置在与所述一个方向垂直的方向上，各微透镜阵列以能够关于其配置方向从平行于被曝光基板的方向相对于所述支承基板倾斜的方式被支承。

2.根据权利要求1所述的使用了微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，所述微透镜阵列的倾斜角度关于所述配置方向逐渐变大或变小。

3.根据权利要求1或2所述的使用了微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，所述微透镜阵列在所述一个方向上配置成2队，各微透镜阵列在所述支承基板上交错地配置。

4.根据权利要求1至3的任一项所述的使用了微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，所述微透镜将所述掩模的曝光图案的正立等倍像投影到所述基板上。

5.根据权利要求1至4的任一项所述的使用了微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，所述微透镜阵列的倾斜角度的调整以如下方式进行：预先测定已经形成于所述被曝光基板的下层图案的总间距，使曝光图案的间距与该下层图案的总间距一致。