[发明专利]具有冲击射流安装系统的将液体流束受控施用到基底的设备有效

专利信息
申请号: 201180038361.X 申请日: 2011-07-14
公开(公告)号: CN103052743A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: F.S.拉弗;J.E.拉姆勒;M.A.霍农;J.C.布赖恩特;S.E.科-费勒特 申请(专利权)人: 美利肯公司
主分类号: D06B1/02 分类号: D06B1/02;D06B11/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈尧剑
地址: 美国南卡*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于将液体流束施加到基底的改进的系统。该系统包括开放面流动通路,用于在沿无限制流动路径排放之前携带液体离开完全封闭的流动路段。本发明进一步提供了一种将冲击射流传送到液体流束的改进的、自对准模块化组件,用于使液体流束的方向改向。本发明进一步提供了一种改进的装置,用于收集响应于对冲击射流的施加而被偏转的液体,而不会有过量残留物堆积。
搜索关键词: 具有 冲击 射流 安装 系统 液体 受控 施用 基底 设备
【主权项】:
一种用于将液体从加压源以液体流束的形式间歇性地施加到目标基底上的设备,所述设备包括:歧管腔,其用于从所述加压源接收所述液体;通路部件,其具有与所述歧管腔流体连通的多个液体通路,每个液体通路具有朝向所述目标基底的液体排放端部,从而来自所述歧管腔的所述液体通过所述液体通路,形成指向所述基底的所述液体流束,每个通路部件还具有被布置成与所述液体通路的所述液体排放端部相邻的平台,所述平台具有从其延伸穿过的多个冲击射流定位孔径,每个冲击射流定位孔径与特定液体通路相关联并具有中心轴线,该中心轴线被定向成与相应的液体通路的中心轴线成相交关系;冲击射流模块,其具有被安装在冲击射流本体中的多个冲击射流管,所述冲击射流管具有从其延伸的管远端,每个冲击射流管具有射流管开口,其中每个冲击射流管与相关联的冲击射流定位孔径相对准,并且其中所述冲击气体管的所述管远端还被插入相应的冲击射流定位孔径中,从而通过所述冲击射流管去往相关联的液体流束的冲击流体将在相关联的液体流束中形成改向后流动路径;和液体收集模块,其适于捕获沿所述改向后流动路径的所述液体流束。
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