[发明专利]具有冲击射流安装系统的将液体流束受控施用到基底的设备

权利要求书

1.一种用于将液体从加压源以液体流束的形式间歇性地施加到目标基底上的设备，所述设备包括：

歧管腔，其用于从所述加压源接收所述液体；

通路部件，其具有与所述歧管腔流体连通的多个液体通路，每个液体通路具有朝向所述目标基底的液体排放端部，从而来自所述歧管腔的所述液体通过所述液体通路，形成指向所述基底的所述液体流束，每个通路部件还具有被布置成与所述液体通路的所述液体排放端部相邻的平台，所述平台具有从其延伸穿过的多个冲击射流定位孔径，每个冲击射流定位孔径与特定液体通路相关联并具有中心轴线，该中心轴线被定向成与相应的液体通路的中心轴线成相交关系；

冲击射流模块，其具有被安装在冲击射流本体中的多个冲击射流管，所述冲击射流管具有从其延伸的管远端，每个冲击射流管具有射流管开口，其中每个冲击射流管与相关联的冲击射流定位孔径相对准，并且其中所述冲击气体管的所述管远端还被插入相应的冲击射流定位孔径中，从而通过所述冲击射流管去往相关联的液体流束的冲击流体将在相关联的液体流束中形成改向后流动路径；和

液体收集模块，其适于捕获沿所述改向后流动路径的所述液体流束。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述冲击射流定位孔径的所述中心轴线大体垂直于相关联的液体通路的所述中心轴线。

3.如权利要求1所述的设备，其中所述冲击射流管的内直径大于相关联的液体通路中的所述液体排放端部的相应横截面宽度。

4.如权利要求1所述的设备，其中所述平台被定位成从所述液体通路和来自所述液体通路的所述液体流束的路径凹进。

5.如权利要求1所述的设备，其中所述射流管开口与相应的液体流束的未中断流动路径间隔开一距离。

6.如权利要求5所述的设备，其中所述射流管开口与相应的液体流束的未中断流动路径间隔开约10至约25mil的距离。

7.如权利要求1所述的设备，其中所述冲击射流管的所述射流管开口与所述平台的与所述液体流束的位置最接近的表面大体在同一平面上。

8.如权利要求1所述的设备，其中所述冲击射流管的所述射流管开口2从所述平台的表面延伸向所述液体流束的位置。

9.如权利要求1所述的设备，其中所述冲击射流管基本在共同平面内以并排关系被布置成直线图案。

10.如权利要求9所述的设备，其中一个或多个所述冲击射流管包括与所述管远端相反的近端，所述近端从所述共同平面弯曲离开，以适应连接到气体供给装置。

11.如权利要求1所述的设备，其中所述通路部件包括在所述平台相反侧的冲击射流安装表面，并且其中所述冲击射流模块包括冲击射流模块安装表面，所述冲击射流管的所述远端从所述冲击射流模块安装表面延伸，并且其中所述多个管远端延伸进入到所述冲击射流定位孔径中，并且所述冲击射流模块安装表面接合所述通路部件的所述冲击射流安装表面。

12.如权利要求11所述的设备，其中所述冲击射流定位孔径为锥形，在所述冲击射流模块的所述冲击射流模块安装表面附近具有较宽的端部，并且在所述通路部件的所述平台附近具有较窄的端部。

13.如权利要求11所述的设备，其中所述气体管的所述远端为锥形，在所述冲击射流本体附近具有较大的端部，并且在所述近端附近具有较窄的端部。

14.如权利要求1所述的设备，其中所述设备包括多个冲击射流模块，每个所述冲击射流模块具有冲击射流管，所述冲击射流管的管远端被插入到相关联的冲击射流定位孔径中，并且其中每个所述管远端具有与来自相关联的液体通路的液体流束相对准的射流管开口。