[发明专利]具有冲击射流安装系统的将液体流束受控施用到基底的设备

说明书

技术领域

本发明总体涉及形成一个或多个具有相对小的、边界清晰（well defined）的横截面区域的液体流束的设备和方法，该液体流束通常指向目标基底，并且通过施加横向于液体流束的正常流动方向的气态流体冲击射流，选择性地打断和重新定向这些液体流束的流向。更具体地，本发明涉及提供精确性以及基本上在(i)正常施用模式（在此模式下液体流束被施用于基底）和(ii)转向模式（在此模式下液体流束被重新定向成离开基底）之间即时转换的设备和方法。这样的转换是响应于命令来执行的，以在基底上制作预期的精密标度的处理图案。

背景技术

通过打断施加的液体流束在目标基底上提供标度相对精细的液体处理图案的系统是被广泛熟知的。在现有的系统中，多个液体流束在压力下从被布置成紧密并排排列的喷孔开口被喷射出。这些喷孔开口由限定出这些开口的壁外周地环绕。加压液体流束在正常情况下射向目标基底，但是通过施加横向气体射流而被间歇性地打断，该横向气体射流将液体流束重新定向成离开目标基底，并进入收集池以被再利用。在气体射流的施加被中断情况下，液体流束恢复沿着初始的路径行进。这样的系统一般被用于将染料或其它液体的复杂图案施加到纺织品基底上，但是，如果需要，也可同样地处理其它的基底。

虽然现有的系统工作十分良好，但是，在基底上施加图案方面提供改善的清晰度，同时仍然要将大量的染料或其它液体传递到基底上以提供完整的处理，这是持续性的挑战。在系统装配方面提供降低的复杂性以及在收集未使用的液体方面增强功能性同样也是持续性的挑战。

发明内容

本发明通过提供用于将液体流束施加到基底的改进系统，提供了超越现有构造和实践的优点和替代方案。本发明的系统在沿无限制的流动路径排放前结合了开放面的流动通路。本发明进一步提供了改进的自对准模块化组件，用于将冲击流束传送给液体流束。本申请进一步提供经改进的装置，用于收集响应于冲击流束的施加而转向的流动路径中的液体流束，而不会有过量残留物堆积。

依据一个示范性的方面，本发明提供了用于将一个或多个液体流束间歇性地施加到目标基底上的设备。该设备包括歧管形式用于容纳液体的液体供给源，和与液体供给源流体连通的多个液体输送通路。这些液体输送通路适用于携带液体离开歧管并向目标基底输送。液体输送通路中的至少一个包括限定出基本完全封闭的液体通路的第一路段，以及在该第一路段下游的第二路段。该第二路段具有开放面液槽配置。该第二路段的端部限定了朝向目标基底的侧开放液体出口（open sided liquid outlet），使得离开第二路段的液体流束沿基本对准液体输送通路的正常流动路径被射向目标基底。多个冲击射流指向通道被定位成在液体输送通路和目标基底之间的一高度处。这些冲击射流指向通道中的至少一个具有中心轴线，其被定向成与从相应的液体输送通路射出的相应液体流束的未中断流动路径成相交关系。冲击射流指向通道适用于选择性地发出冲击流束，以将相应的液体流束转向成远离未中断流动路径，进入转向后流动路径。液体收集组件捕获在转向的正常流动路径中的液体流束。

依据另一个示范性方面，本发明提供了用于将一个或多个液体流束间歇地施加到目标基底上的设备。该设备包括歧管形式用于容纳液体的液体供给源，和具有与歧管流体连通的多个液体输送通路的通路模块。这些液体输送通路适于携带液体离开歧管并向目标基底输送。该液体输送通路的端部限定出射向目标基底的液体出口，使得离开液体输送通路的液体流束沿与液体输送通路基本对准的正常流动路径被射向目标基底。在该液体出口下面，通道模块具有平台（landing）。该平台具有冲击射流定位孔径，孔径的中心轴线与相应的液体输送通路的中心轴线相对准。该设备还包括冲击射流模块，其具有被安装在冲击射流本体上的可单独激活的多个冲击射流管。冲击射流管包括从冲击射流本体延伸的远端，这些远端被布置成图案，以适于同轴插入通路模块的平台中的相应的冲击射流定位孔径中。这些冲击射流管适于选择性地传递冲击流束，以使相应的液体流束转向成远离未中断流动路径，进入转向后流动路径。液体收集模块捕获从正常流动路径转向的液体。