[发明专利]近红外反射膜、近红外反射膜的制造方法及近红外反射体有效
| 申请号： | 201180035575.1 | 申请日： | 2011-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN103003729A | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 当间恭雄;荒井健夫;中岛彰久;久光聪史;铃木伸一 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达控股株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;B32B7/02;B32B27/18;G02B5/08;G02B5/26 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可以大面积化、具有柔软性、低雾度且可见光透射率高的近红外反射膜及近红外反射体。该近红外反射膜的特征在于，在基体材料上具有至少1个由高折射率层和低折射率层构成的单元，相邻的该高折射率层和该低折射率层的折射率差为0.1以上，该高折射率层含有1)体积平均粒径100nm以下的金红石型氧化钛、2)水溶性高分子及3)选自下述化合物组中的至少1种化合物A。化合物组：含羧基化合物、异羟肟酸类、吡啶衍生物。 | ||
| 搜索关键词： | 红外 反射 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种近红外反射膜，其在基体材料上具有至少1个由高折射率层和低折射率层构成的单元，相邻的该高折射率层和该低折射率层的折射率差为0.1以上，其中，该高折射率层含有1)体积平均粒径100nm以下的金红石型氧化钛、2)水溶性高分子及3)选自下述化合物组中的至少1种化合物A，化合物组：含羧基化合物、异羟肟酸类、吡啶衍生物。
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