[发明专利]近红外反射膜、近红外反射膜的制造方法及近红外反射体

权利要求书

1.一种近红外反射膜，其在基体材料上具有至少1个由高折射率层和低折射率层构成的单元，相邻的该高折射率层和该低折射率层的折射率差为0.1以上，其中，该高折射率层含有1)体积平均粒径100nm以下的金红石型氧化钛、2)水溶性高分子及3)选自下述化合物组中的至少1种化合物A，

化合物组：含羧基化合物、异羟肟酸类、吡啶衍生物。

2.根据权利要求1所述的近红外反射膜，其中，所述化合物A具有下述通式(1)或(2)所示的部分结构，

[化学式1]

3.根据权利要求1或2所述的近红外反射膜，其中，所述化合物A为下述通式(3)所示的化合物，

[化学式2]

通式(3)

式中，Z表示碳原子、与碳原子一同形成5元环或6元环所需要的原子组；M表示氢原子、碱金属原子或铵基，R₁表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷基羧酰胺基、芳基羧酰胺基、烷基磺酰胺基、芳基磺酰胺基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷基氨基甲酰基、芳基氨基甲酰基、氨基甲酰基、烷基氨磺酰基、芳基氨磺酰基、氨磺酰基、氰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基羰基、芳基羰基、酰氧基、羧基、羰基、磺酰基、氨基、羟基或杂环基；n表示0～4的整数。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的近红外反射膜，其中，所述水溶性高分子为选自具有反应性官能团的聚合物、下述通式(4)所示的多价金属聚合物、增粘多糖类及明胶中的至少1种，

通式(4)

(M¹(O)_l(OR¹)_m(OR²)_n(X)_i(Y)_j)_k

式中，i及j各自为0或1，k为2以上的整数，l、m、n各自为0～2的整数，l+m+n＝2；M¹表示铝原子、锆原子或铪原子；R¹及R²各自表示烷基、酰基或氢原子，可以相同或不同；X及Y各自表示OH、卤原子、NO₃、SO₄、CO₃、R³COO或H₂O，R³表示烷基或氢原子。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的近红外反射膜，其中，所述水溶性高分子为明胶，所述近红外反射膜中，

相对于所述高折射率层的总质量含有：1)15质量%以上且45质量%以下的平均分子量为3万以下的低分子量明胶或胶原肽，

相对于所述高折射率层的总质量含有2)15质量%以上且40质量%以下的平均分子量为10万以上的高分子量明胶。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的近红外反射膜，其中，所述高折射率层是使用下述高折射率层涂布液而形成的，所述高折射率层涂布液包含：水系溶胶、作为所述化合物A的等电点为6.5以下的氨基酸类、和所述水溶性高分子，

所述水系溶胶含有所述体积平均粒径100nm以下的金红石型氧化钛，pH为1.0以上且3.0以下，且ζ-电位为正。

7.一种近红外反射膜的制造方法，其制造在基体材料上形成至少1个由高折射率层和低折射率层构成的单元、相邻的该高折射率层和该低折射率层的折射率差设为0.1以上的近红外反射膜，其中，该高折射率层是使用含有1)体积平均粒径100nm以下的金红石型氧化钛、2)水溶性高分子、及3)选自下述化合物组中的至少1种化合物A的高折射率层涂布液而形成的，

化合物组：含羧基化合物、异羟肟酸类、吡啶衍生物。

8.根据权利要求7所述的近红外反射膜的制造方法，其中，相对于高折射率层的总质量，所述高折射率层涂布液含有1)15质量%以上且45质量%以下的平均分子量为3万以下的低分子量明胶或胶原肽及2)15质量%以上且40质量%以下的平均分子量为10万以上的高分子量明胶作为水溶性高分子。