[发明专利]近红外反射膜、近红外反射膜的制造方法及近红外反射体

说明书

技术领域

本发明涉及一种近红外反射性、可见光透射性及膜柔软性优异的近红外反射膜及其制造方法及设有近红外反射膜的近红外反射体。

背景技术

近年来，由于对节能对策的关注提高，因此，从减少施加于冷气设备的负荷的观点考虑，对安装在建筑物及车辆的窗玻璃上而遮断太阳光的热线透射的近红外反射膜的要求提高。

作为近红外反射膜的形成方法，主要提出了采用蒸镀法、溅射法等干式制膜法形成由交替叠层了高折射率层和低折射率层的结构构成的叠层膜的方法。但是，对干式制膜法而言，存在如下课题等：形成时使用的真空装置等为大型机器，制造成本高，难以大面积化，而且，基体材料被限定于耐热性原材料。

已知有采用湿式涂布法代替具有如上所述的课题的干式制膜法形成近红外反射膜的方法。

例如，公开了如下方法：通过使用棒涂机的湿式涂布方式在基体材料上涂布将含有金属氧化物及金属化合物微粒的热固化型有机硅树脂及紫外线固化型丙烯酸树脂分散在有机溶剂中而得到的高折射率层涂布液，形成透明叠层体的方法(例如参照专利文献1。)；通过使用了棒涂机的湿式涂布方式在基体材料上涂布由金红石型的氧化钛、杂环类氮化合物(例如吡啶)、紫外线固化型粘合剂及有机溶剂构成的高折射率涂膜形成用组合物，形成透明叠层体的方法(例如参照专利文献2。)。

另一方面，也公开了使用球状金红石型氧化钛粒子的甲醇分散浆料和甲醇二氧化硅溶胶交替叠层的方法(例如参照专利文献3。)。

但是，在专利文献1及专利文献2所公开的方法中，作为高折射率层形成用涂布液的介质，主要由有机溶剂形成，因此，在高折射率层形成及干燥时，导致大量的有机溶剂飞散，存在环境上的课题。进而，在上述公开的方法中，使用作为粘合剂的紫外线固化型粘合剂及热固化型粘合剂形成高折射率层后，通过紫外线或者热进行固化，因此，涂膜物性缺乏柔软性。

进而，由于使用利用表面处理剂使金红石型氧化钛粒子分散在有机溶剂中形成的浆料，因此，存在粒度分布广、涂膜中的折射率在面内不均匀的课题；以及由于表面处理剂的影响而导致涂膜经时变色的课题。

另外，在专利文献3中所记载的方法存在如下课题：由于通过粒子间的粘结进行膜形成，因此膜较脆，进而，在通过金红石型氧化钛粒子的粘结而形成的高折射率层中，由于在粒子界面上产生的空隙，雾度高。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开平8-110401号公报

专利文献2:日本特开2004-123766号公报

专利文献3:日本特开2003-266577号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于，提供一种近红外反射膜及其制造方法、以及设有近红外反射膜的近红外反射体，所述近红外反射膜使用水系的折射率形成用涂布液，制造成本低廉，可以大面积化，具有柔软性，低雾度且可见光透射率高。

用于解决课题的手段

本发明的上述目的通过以下的方案来实现。

1、一种近红外反射膜，其在基体材料上具有至少1个由高折射率层和低折射率层构成的单元，相邻的该高折射率层和该低折射率层的折射率差为0.1以上，其中，该高折射率层含有1)体积平均粒径100nm以下的金红石型氧化钛、2)水溶性高分子及3)选自下述化合物组中的至少1种化合物A。

化合物组：含羧基化合物、异羟肟酸类、吡啶衍生物。

2、如上述1所述的近红外反射膜，其中，所述化合物A具有下述通式(1)或(2)所示的部分结构。

[化学式1]

3、如上述1或2所述的近红外反射膜，其中，所述化合物A为下述通式(3)所示的化合物。

[化学式2]

通式(3)

[式中，Z表示碳原子、与碳原子一同形成5元环或6元环所需要的原子组。M表示氢原子、碱金属原子或铵基，R₁表示氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷基羧酰胺基、芳基羧酰胺基、烷基磺酰胺基、芳基磺酰胺基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷基氨基甲酰基、芳基氨基甲酰基、氨基甲酰基、烷基氨磺酰基、芳基氨磺酰基、氨磺酰基、氰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基羰基、芳基羰基、酰氧基、羧基、羰基、磺酰基、氨基、羟基或杂环基。n表示0～4的整数。]