[发明专利]膜表面处理装置有效
| 申请号： | 201180012728.0 | 申请日： | 2011-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN102791777A | 公开（公告）日： | 2012-11-21 |
| 发明（设计）人： | 中野良宪;野上光秀;川崎真一;佐藤崇;松崎纯一 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08J7/00 | 分类号： | C08J7/00;G02B1/12;G02B5/30;H05H1/24 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种膜表面处理装置，在将聚合性单体作为反应成分而对偏振板用保护膜等被处理膜进行等离子体处理时，能够防止电极等的污垢且提高粘接性等处理效果。在第一辊电极(11)及第二辊电极(12)上卷挂被处理膜(9)。使电极(11、12)旋转，从电极(11)向电极(12)输送被处理膜(9)。使反应气体喷嘴(31)沿着第一辊电极(11)的周向从电极(11、12)间的放电空间(14)向电极旋转方向的上游侧离开，且以与第一辊电极(11)对置的方式配置。优选在第一辊电极(11)上覆盖遮蔽构件(40)。从喷嘴(31)吹出含有聚合性单体的反应气体。在第一、第二辊电极(11、12)彼此之间的被处理膜(9)的折返部分(9a)的内侧配置有放电生成气体喷嘴(21)。从放电生成气体喷嘴(21)向放电空间(14)吹出不含有聚合性单体的放电生成气体。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种膜表面处理装置，使聚合性单体与连续的被处理膜接触，并使所述被处理膜通过与压力接近大气压的放电空间而进行表面处理，所述膜表面处理装置的特征在于，具备：第一辊电极，其供所述被处理膜卷挂且绕自身的轴线旋转而输送所述被处理膜；第二辊电极，其与所述第一辊电极平行配置并在与所述第一辊电极之间形成所述放电空间，所述被处理膜的比所述第一辊电极靠输送方向的下游侧的部分在通过所述放电空间后折返而卷挂在该第二辊电极上，且该第二辊电极绕自身的轴线向与所述第一辊电极相同的方向旋转而输送所述被处理膜；反应气体喷嘴，其吹出含有所述聚合性单体的反应气体，并且配置成沿着所述第一辊电极的周向从所述放电空间向所述第一辊电极的旋转方向的上游侧离开，且与所述第一辊电极的卷绕有所述被处理膜的部分对置；放电生成气体喷嘴，其配置在所述第一辊电极和第二辊电极彼此之间的所述被处理膜的折返部分的内侧，且向所述放电空间吹出不含有所述聚合性单体的放电生成气体。
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