[发明专利]膜表面处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及对连续的膜进行表面处理的装置，例如涉及适合于提高偏振板的保护膜的粘接性的处理等的膜表面处理装置。

背景技术

例如，在液晶表示装置中装入有偏振板。偏振板通过在偏振膜上利用粘接剂粘接保护膜而形成。通常，偏振膜由含有聚乙烯醇(PVA)为主要成分的树脂膜(以下称为“PVA膜”)构成。保护膜由含有三醋酸纤维素(TAC)作为主要成分的树脂膜(以下称为“TAC膜”)构成。作为粘接剂使用聚乙烯醇系或聚醚系等水系粘接剂。PVA膜与这些粘接剂的粘接性良好，但TAC膜的粘接性并不良好。作为提高TAC膜的粘接性的方法，通常为皂化处理。皂化处理是将TAC膜浸渍在高温、高浓度的碱液中的处理。因此，被指出存在有作业性和废液处理的问题。

作为代替技术，在专利文献1中记载有在上述粘接工序之前在保护膜的表面覆盖聚合性单体而照射大气压等离子体的技术。大气压等离子体的照射装置在密闭容器内收容一个辊电极，沿着该辊电极的外周隔开间隔地排列有多个平板电极。将覆盖有上述聚合性单体的保护膜卷挂到辊电极上。然后，向密闭容器内导入氮等放电气体，在辊电极与各平板电极之间进行等离子体化。由此，使上述聚合性单体聚合，提高保护膜的亲水性，水系粘接剂容易与保护膜融合。

专利文献2、3的等离子体处理装置具有一对辊电极和处理气体的吹出喷嘴。吹出喷嘴面向辊电极间的缝隙。在一对辊电极上卷绕连续膜，并在辊电极间的缝隙进行等离子体处理。通过一对辊电极彼此同步地进行旋转从而输送连续膜。

【先行技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本特开2009-25604号公报

【专利文献2】国际公开WO2009/008284号(图5)

【专利文献3】日本特开2009-035724号公报

【发明的概要】

【发明要解决的课题】

在上述专利文献1中，等离子体照射装置的辊电极由保护膜覆盖，但平板电极和气体喷嘴直接暴露于等离子体下。因此，容易在平板电极和气体喷嘴上附着由聚合性单体的聚合体等构成的污垢。该污垢成分成为产生颗粒(particle)的原因，导致产率的降低。因此，难以长期稳定地进行运转。

相对于此，如果使用专利文献2、3的具备一对辊电极的等离子体处理装置，由于被处理膜覆盖两方的辊电极，因此电极的污垢少。而且，通过从面向放电空间的吹出喷嘴吹出含有聚合性单体的气体，从而能够使聚合性单体进行等离子体聚合。但是，由于聚合性单体直接从吹出喷嘴向放电空间吹出，所以与吹出同时地发生聚合反应，容易在不附着于被处理膜的表面的状态下通过放电空间而排出。因此，聚合性单体的损失变大，认为无法得到足够的处理效果(粘接力)。

发明内容

本发明是鉴于上述情况作出的，其目的在于在将聚合性单体作为反应成分而对偏振板用保护膜等被处理膜进行等离子体处理时，能够防止电极等的污垢且同时提高粘接性等的处理效果。

【用于解决课题的手段】

为了解决上述课题，本发明为一种膜表面处理装置，使聚合性单体与连续的被处理膜接触，并使所述被处理膜通过与压力接近大气压的放电空间而进行表面处理，所述膜表面处理装置的特征在于，具备：

第一辊电极，其供所述被处理膜卷挂且绕自身的轴线旋转而输送所述被处理膜；

第二辊电极，其与所述第一辊电极平行配置并在与所述第一辊电极之间形成所述放电空间，所述被处理膜的比所述第一辊电极靠输送方向的下游侧的部分在通过所述放电空间后折返而卷挂在该第二辊电极上，且该第二辊电极绕自身的轴线向与所述第一辊电极相同的方向旋转而输送所述被处理膜；

反应气体喷嘴，其吹出含有所述聚合性单体的反应气体，并且配置成沿着所述第一辊电极的周向从所述放电空间向所述第一辊电极的旋转方向的上游侧离开，且与所述第一辊电极的卷绕有所述被处理膜的部分对置；

放电生成气体喷嘴，其配置在所述第一辊电极和第二辊电极彼此之间的所述被处理膜的折返部分的内侧，且向所述放电空间吹出不含有所述聚合性单体的放电生成气体。

通过被处理膜覆盖第一辊电极及第二辊电极，从而能够防止或抑制污垢附着在第一、第二辊电极上。反应气体喷嘴从放电空间离开配置，因此能够防止或抑制污垢附着在该反应气体喷嘴上。由此，能够防止或抑制颗粒的产生，能够提高产率。由此，能够长期稳定地使装置运转。

通过所述第一辊电极及第二辊电极的旋转，将被处理膜从第一辊电极向第二辊电极输送。