[发明专利]半导体晶圆加工用粘合片无效

专利信息
申请号: 201180003930.7 申请日: 2011-04-14
公开(公告)号: CN102549720A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 大石伦仁;新谷寿朗 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: H01L21/301 分类号: H01L21/301;C09J7/02;C09J11/06;C09J133/04;C09J167/00;H01L21/304
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于,提供一种半导体晶圆加工用粘合片,其在各种环境下的保存稳定性优异、使用后还可以防止对被粘物的污染,另外,贴合在半导体晶圆的电路图案形成面时,对形成电路图案的台阶的随动性优异且经时的浮起量稳定性优异。一种半导体晶圆加工用粘合片,其特征在于,在基材的至少单面备有粘合剂层,所述粘合剂层在基础聚合物中添加有聚酯系的增塑剂及表面活性剂,所述增塑剂及表面活性剂的溶解度参数(SP值)满足如下关系:0.9≤[增塑剂的SP值]/[表面活性剂的SP值]≤1.0。
搜索关键词: 半导体 晶圆加 工用 粘合
【主权项】:
一种半导体晶圆加工用粘合片,其特征在于,在基材的至少单面备有粘合剂层,所述粘合剂层包含基础聚合物、聚酯系的增塑剂及表面活性剂,所述增塑剂及表面活性剂的溶解度参数(SP值)满足如下关系:0.9≤[增塑剂的SP值]/[表面活性剂的SP值]≤1.0。
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