[发明专利]曝光装置用光照射装置、光照射装置的控制方法、曝光装置以及曝光方法有效
| 申请号： | 201180001999.6 | 申请日： | 2011-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN102483587A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 原田智纪;永井新一郎;川岛洋德;山田丰;轻石修作;林慎一郎 | 申请（专利权）人： | 恩斯克科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;F21S2/00;G02F1/1335;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 | 代理人： | 陈波;高永懿 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供能够抑制随着光源部的照射时间的增加而导致的照度下降的曝光装置用光照射装置、光照射装置的控制方法、曝光装置以及曝光方法。该曝光装置用光照射装置具备：多个光源部(73)，其包括发光部(71)和反射光学系统(72)；多个闸盒(81)，其以光源支承部(83)支承光源部(73)，以使来自预定数量的光源部(73)的光射入到复眼透镜(74)的入射面上；支承体(82)，其具有用于安装多个闸盒(81)的多个闸盒安装部(90)，以使全部的光源部(73)的光射入到复眼透镜(74)的入射面上；以及光轴角度调节机构(99)，其可对各光源部(73)的光轴角度进行调节。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 用光 照射 控制 方法 以及 | ||
【主权项】：
一种曝光装置用光照射装置，其特征在于，具备：多个光源部，分别包括发光部和使从该发光部发出的光具有方向性地射出的反射光学系统；多个闸盒，具有分别支承所述光源部的光源支承部，以使预定数量的所述光源部的光射入到复眼透镜的入射面；支承体，具有分别用于安装所述多个闸盒的多个闸盒安装部，以使全部的所述光源部的光射入到复眼透镜的入射面；以及光轴角度调节机构，可对所述各光源部的相对于所述复眼透镜的光轴角度进行调节，以修正随着所述各光源部的照射时间的增加而产生的所述光的扩散。
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