[发明专利]曝光装置用光照射装置、光照射装置的控制方法、曝光装置以及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置用光照射装置，其特征在于，具备：

多个光源部，分别包括发光部和使从该发光部发出的光具有方向性地射出的反射光学系统；

多个闸盒，具有分别支承所述光源部的光源支承部，以使预定数量的所述光源部的光射入到复眼透镜的入射面；

支承体，具有分别用于安装所述多个闸盒的多个闸盒安装部，以使全部的所述光源部的光射入到复眼透镜的入射面；以及

光轴角度调节机构，可对所述各光源部的相对于所述复眼透镜的光轴角度进行调节，以修正随着所述各光源部的照射时间的增加而产生的所述光的扩散。

2.根据权利要求1所述的曝光装置用光照射装置，其特征在于，

所述预定数量的光源部由光谱特性不同的多种光源部构成。

3.根据权利要求2所述的曝光装置用光照射装置，其特征在于，

所述预定数量的光源部的各发光部的光谱特性相同，

通过在所述预定数量的光源部的一部分上设置滤光片，构成光谱特性不同的所述多种光源部。

4.一种曝光装置，其特征在于，具备：

基板保持部，用于保持作为被曝光材料的基板；

掩模保持部，以与所述基板对置的方式保持掩模；以及

照明光学系统，具有权利要求1至3中任一项所述的光照射装置和复眼透镜，由该光照射装置的多个光源部射出的光射入到该复眼透镜，

来自所述照明光学系统的光经由所述掩模向所述基板照射。

5.一种曝光装置用光照射装置的控制方法，该曝光装置用光照射装置具备：

多个光源部，分别包括发光部和使从该发光部发出的光具有方向性地射出的反射光学系统；

多个闸盒，具有分别支承所述光源部的光源支承部，以使预定数量的所述光源部的光射入到复眼透镜的入射面；

支承体，具有分别用于安装所述多个闸盒的多个闸盒安装部，以使全部的所述光源部的光射入到复眼透镜的入射面；以及

光轴角度调节机构，可对所述各光源部的相对于所述复眼透镜的光轴角度进行调节，以修正随着所述各光源部的照射时间的增加而产生的所述光的扩散，

所述控制方法包括：

用于检测随着所述各光源部的照射时间的增加而产生的所述光的扩散的工序，和

由所述光轴角度调节机构修正所述光的扩散的工序。

6.根据权利要求5所述的曝光装置用光照射装置的控制方法，其特征在于，还包括：

照度计，设置于所述复眼透镜的下游侧，用于测定与各波长相对应的照度；和

控制部，用于控制所述各发光部的点亮、熄灭以及照度，

所述预定数量的光源部由光谱特性不同的多种光源部构成，

所述控制部基于由所述照度计测定的对应于各波长的照度，控制所述闸盒内的各光源部，以在预定的波长中获得期望的照度。

7.根据权利要求6所述的曝光装置用光照射装置的控制方法，其特征在于，

所述预定数量的光源部的各发光部的光谱特性相同，

通过在所述预定数量的光源部的一部分上设置滤光片，构成光谱特性不同的所述多种光源部。

8.一种曝光方法，其特征在于，具备：

基板保持部，用于保持作为被曝光材料的基板；

掩模保持部，以与所述基板对置的方式保持掩模；

照明光学系统，具有权利要求5至7中任一项所述的光照射装置和复眼透镜，由该光照射装置的多个光源部射出的光射入到该复眼透镜，

在实施权利要求5至7中任一项所述的光照射装置的控制方法的同时，使得来自所述照明光学系统的光经由所述掩模照射到所述基板上，以将在所述掩模上形成的图案曝光转印到所述基板上。