[发明专利]曝光装置用光照射装置、光照射装置的控制方法、曝光装置以及曝光方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种曝光装置用光照射装置、光照射装置的控制方法、曝光装置以及曝光方法，更具体的，涉及能够应用于将掩模的掩模图案曝光转印在液晶显示器或等离子显示器等大型的平板显示器的基板上的曝光装置的曝光装置用光照射装置、光照射装置的控制方法、曝光装置以及曝光方法。

背景技术

以往，作为制造平板显示装置的滤色板等面板的装置，设计出有接近曝光装置、扫描曝光装置、投影曝光装置、镜面投影、密接式曝光装置等各种各样的曝光装置。例如，在以往的分割逐次接近曝光装置中，通过掩模台保持比基板小的掩模，同时通过工件台保持基板，在使两者接近并对置配置后，通过相对于掩模分步移动工件台，每步都从掩模侧向基板照射图案曝光用光，由此将描绘于掩模上的多个图案曝光转印在基板上，在一块基板上制作多个面板。另外，扫描曝光装置相对于以一定速度输送的基板，经由掩模照射曝光用光，在基板上曝光转印掩模的图案。

近年来，显示装置正在逐渐大型化，例如，在分割逐次曝光中，在通过四次曝光闪光制造第八代(2200mm×2500mm)的面板时，一次的曝光区域为1300mm×1120mm，在通过六次曝光闪光进行制造时，一次的曝光区域为1100mm×750mm。因此，曝光装置也要求曝光区域的扩大，有必要提高所使用的光源的输出。因此，作为照明光学系统，公知的是使用多个光源来提高光源整体的输出的照明光学系统(例如，参照专利文献1、2及3)。

专利文献1记载的露光用照明装置中，将从光源部射出的发散光射入入射面上的入射区域的大小设定为小于入射面，使得全部的发散光射入到入射面，从而有效利用从光源部发出的光。此外，在专利文献2记载的光照射装置中，在相邻配置的各光源间设置用于遮断光的隔离壁，以防止来自相邻光源的光的照射，解决了由加热等引起的光源部的问题。进而，在专利文献3记载的光照射装置中，将多个光源单元错列配置的2组光源部在前后方向上间隔配置，使得在光源单元间具有空隙，可高效冷却光源单元。此外，在专利文献4记载的光照射装置中，设置有遮光装置，其遮蔽来自光源的光，缩小入射到复眼透镜的光的集光角，在使用照射区域狭窄的复眼透镜时，将遮光装置插入光路内。

专利文献1：日本专利第4391136号公报

专利文献2：日本特开第2006-324435号公报

专利文献3：日本特开第2007-115817号公报

专利文献4：日本特开第2005-292316号公报

发明内容

发明所要解决的问题

一般的，作为露光装置用光源部，使用电极由钨制成的超高压水银灯。如图28(a)所示，在露光装置用光照射装置1中，多个超高压水银灯2沿曲面配置为大致圆弧状，使得来自多个超高压水银灯2的全部光L射入复眼透镜3中。从该超高压水银灯2照射的光，即使超高压水银灯2没有投入使用，一般情况下也大致具有2°左右的光的扩展角，为了获得高的输出功率向电极提供大电流时，随着时间的推移，光源的灯泡内钨电极逐渐蒸发，使得电源彼此间的间隔增大，光源的基点变大，其结果如图28(b)所示，光的照射角度例如扩展为2.2°。

此时，例如，当超高压水银灯2至复眼透镜3的距离设置为4m时，则在照射位置(复眼透镜的入射面)上，照射角度0.2°的变化，通常相对于100～200mm左右的照射范围的复眼透镜3的尺寸，相当于大致扩展了14mm的照射范围。因此，来自超高压水银灯2的光的一部分，没有射入复眼透镜3而成为损耗，由此产生照度下降的问题。专利文献1～4公开的技术是，通过入射到复眼透镜上的光的入射区域的设定和光源部的热对策来实现光的有效利用，都没有考虑上述电极的消耗引起的光的扩散，还有进行改善的空间。

本发明是鉴于所述课题而提出的，其目的在于提供能够抑制随着光源部的照射时间的增加而导致的照度下降的曝光装置用光照射装置、光照射装置的控制方法、曝光装置以及曝光方法。

用于解决问题的方法

本发明的上述目的通过下述的构成来实现。

(1)一种曝光装置用光照射装置，其特征在于，具备：

多个光源部，其分别包括发光部和使从该发光部发出的光具有方向性地射出的反射光学系统；

多个闸盒，其具有分别支承所述光源部的光源支承部，以使所述预定数量的光源部的光入射到复眼透镜的入射面；

支承体，其具有分别用于安装所述多个闸盒的多个闸盒安装部，以使所述全部的光源部的光入射到复眼透镜的入射面；