[实用新型]一种磁控溅射靶有效
| 申请号： | 201120576468.7 | 申请日： | 2011-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN202415681U | 公开（公告）日： | 2012-09-05 |
| 发明（设计）人： | 朱刚劲;朱刚毅;朱文廓 | 申请（专利权）人： | 肇庆市腾胜真空技术工程有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 裘晖 |
| 地址： | 526060 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种磁控溅射靶，包括摆动磁芯和转动靶材，摆动磁芯和转动靶材均为圆柱形结构，摆动磁芯设于转动靶材中部，转动靶材外周通过靶座与真空室壳体连接；转动靶材顶部设有靶材驱动组件，摆动磁芯顶部设有磁芯驱动组件。本磁控溅射靶是在传统的圆柱靶上进行改进，通过增设磁芯驱动组件使摆动磁芯在工作过程中具有一定的摆动角度，使磁控溅射靶产生变化的磁场，以配合工件的曲面度，从而使工件表面镀膜均匀，有效提高产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射靶，其特征在于，包括摆动磁芯和转动靶材，摆动磁芯和转动靶材均为圆柱形结构，摆动磁芯设于转动靶材中部，转动靶材外周通过靶座与真空室壳体连接；转动靶材顶部设有靶材驱动组件，摆动磁芯顶部设有磁芯驱动组件。
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