[实用新型]一种磁控溅射靶

说明书

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射靶技术领域，特别涉及一种可外转内摆或内外同时旋转的磁控溅射靶。

背景技术

目前常用的磁控溅射靶结构一般是在靶材的中部设置磁铁，磁控溅射靶使用时，磁铁固定不动，靶材旋转产生磁场，同时对设于靶材外周的工件进行镀膜。然而，由于该结构的磁控溅射靶使用时磁铁固定不动，使得靶材旋转后产生的磁场也固定，当工件带有曲面(如车灯玻璃等)时，容易产生镀膜不均匀的现象，从而影响产品质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种可外转内摆或内外同时旋转的磁控溅射靶，该磁控溅射靶可有效改善曲面工件镀膜不均匀的现象，提高产品质量。

本实用新型的技术方案为：一种磁控溅射靶，包括摆动磁芯和转动靶材，摆动磁芯和转动靶材均为圆柱形结构，摆动磁芯设于转动靶材中部，转动靶材外周通过靶座与真空室壳体连接；转动靶材顶部设有靶材驱动组件，摆动磁芯顶部设有磁芯驱动组件。

其中，磁芯驱动组件的结构可为多种形式，主要有：

(1)所述磁芯驱动组件包括摆动气缸、摆动齿条和摆动齿轮，摆动气缸末端通过摆动齿条与摆动齿轮连接，摆动齿轮设于摆动磁芯的顶端。

(2)所述磁芯驱动组件包括摆动电机、摆动电机齿轮和摆动齿轮，摆动电机的输出端通过摆动电机齿轮与摆动齿轮连接，摆动齿轮设于摆动磁芯的顶端。

所述靶材驱动组件包括转动电机、转动电机齿轮和转动齿轮，转动电机的输出端通过转动电机齿轮与转动齿轮连接，转动齿轮设于转动靶材的顶端。

所述靶座设于转动齿轮外周，靶座外周与真空室壳体相接触。

所述摆动磁芯中部为中空结构，摆动磁芯顶部设置出水口，出水口与摆动磁芯中部的中空结构相通。

所述转动靶材中部为中空结构，转动靶材顶部设有进水口，进水口与转动靶材中部的中空结构相通。

本磁控溅射靶使用时，其原理是：靶材驱动组件驱动转动靶材旋转，磁芯驱动组件驱动摆动磁芯摆动，其摆动角度可根据工件的曲面度预先进行调节，由于转动靶材的转动和摆动磁芯的摆动同时进行，所以产生的磁场也是变化的，摆动磁芯的摆动角度与工件的曲面度相匹配，因此磁场的变化也与工件的曲面度相匹配，使得转动靶材对工件表面的镀膜均匀。

本实用新型相对于现有技术，具有以下有益效果：

本磁控溅射靶是在传统的圆柱靶上进行改进，通过增设磁芯驱动组件使摆动磁芯在工作过程中具有一定的摆动角度，使磁控溅射靶产生变化的磁场，以配合工件的曲面度，从而使工件表面镀膜均匀，有效提高产品质量。

附图说明

图1为实施例1的磁控溅射靶的结构示意图。

图2为实施例2的磁控溅射靶的结构示意图。

具体实施方式

下面结合实施例及附图，对本实用新型作进一步的详细说明，但本实用新型的实施方式不限于此。

实施例1

本实施例一种磁控溅射靶，其结构如图1所示，包括摆动磁芯1和转动靶材2，摆动磁芯1和转动靶材2均为圆柱形结构，摆动磁芯1设于转动靶材2中部，转动靶材2外周通过靶座3与真空室壳体4连接；转动靶材2顶部设有靶材驱动组件，摆动磁芯1顶部设有磁芯驱动组件。

磁芯驱动组件包括摆动气缸5、摆动齿条6和摆动齿轮7，摆动气缸5末端通过摆动齿条6与摆动齿轮7连接，摆动齿轮7设于摆动磁芯1的顶端。

靶材驱动组件包括转动电机8、转动电机齿轮9和转动齿轮10，转动电机8的输出端通过转动电机齿轮9与转动齿轮10连接，转动齿轮10设于转动靶材2的顶端。

靶座3设于转动齿轮10外周，靶座3外周与真空室壳体4相接触。

摆动磁芯1中部为中空结构，摆动磁芯顶部设置出水口11，出水口与摆动磁芯中部的中空结构相通。

转动靶材2中部为中空结构，转动靶材顶部设有进水口12，进水口与转动靶材中部的中空结构相通。

本磁控溅射靶使用时，其原理是：转动电机8通过转动电机齿轮9和转动齿轮10的传动驱动转动靶材2旋转，摆动气缸5通过摆动齿条6和摆动齿轮7的传动件驱动摆动磁芯1摆动，其摆动方向如图1中的箭头所示，其摆动角度可根据工件的曲面度预先进行调节，由于转动靶材的转动和摆动磁芯的摆动同时进行，所以产生的磁场也是变化的，摆动磁芯的摆动角度与工件的曲面度相匹配，因此磁场的变化也与工件的曲面度相匹配，使得转动靶材对工件表面的镀膜均匀。

实施例2