[实用新型]一种磁控溅射靶有效
| 申请号： | 201120576468.7 | 申请日： | 2011-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN202415681U | 公开（公告）日： | 2012-09-05 |
| 发明（设计）人： | 朱刚劲;朱刚毅;朱文廓 | 申请（专利权）人： | 肇庆市腾胜真空技术工程有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 裘晖 |
| 地址： | 526060 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 | ||
1.一种磁控溅射靶，其特征在于，包括摆动磁芯和转动靶材，摆动磁芯和转动靶材均为圆柱形结构，摆动磁芯设于转动靶材中部，转动靶材外周通过靶座与真空室壳体连接；转动靶材顶部设有靶材驱动组件，摆动磁芯顶部设有磁芯驱动组件。
2.根据权利要求1所述一种磁控溅射靶，其特征在于，所述磁芯驱动组件包括摆动气缸、摆动齿条和摆动齿轮，摆动气缸末端通过摆动齿条与摆动齿轮连接，摆动齿轮设于摆动磁芯的顶端。
3.根据权利要求1所述一种磁控溅射靶，其特征在于，所述磁芯驱动组件包括摆动电机、摆动电机齿轮和摆动齿轮，摆动电机的输出端通过摆动电机齿轮与摆动齿轮连接，摆动齿轮设于摆动磁芯的顶端。
4.根据权利要求1所述一种磁控溅射靶，其特征在于，所述靶材驱动组件包括转动电机、转动电机齿轮和转动齿轮，转动电机的输出端通过转动电机齿轮与转动齿轮连接，转动齿轮设于转动靶材的顶端。
5.根据权利要求4所述一种磁控溅射靶，其特征在于，所述靶座设于转动齿轮外周，靶座外周与真空室壳体相接触。
6.根据权利要求1所述一种磁控溅射靶，其特征在于，所述摆动磁芯中部为中空结构，摆动磁芯顶部设置出水口，出水口与摆动磁芯中部的中空结构相通。
7.根据权利要求1所述一种磁控溅射靶，其特征在于，所述转动靶材中部为中空结构，转动靶材顶部设有进水口，进水口与转动靶材中部的中空结构相通。
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