[实用新型]一种曝光机及曝光系统有效
| 申请号: | 201120575159.8 | 申请日: | 2011-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN202372754U | 公开(公告)日: | 2012-08-08 |
| 发明(设计)人: | 王德帅;郭建;沈奇雨 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种曝光机及曝光系统,用以降低曝光工艺的实现成本。所述曝光机包括:曝光本体,该曝光机还包括位于所述曝光本体上的四个挡板、活动部件和控制部件;其中,所述各挡板通过活动部件与所述曝光本体相连;所述控制部件按照预设的移动参数,控制所述活动部件带动所述挡板移动。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 曝光 系统 | ||
【主权项】:
一种曝光机,包括:曝光本体,其特征在于,该曝光机还包括位于所述曝光本体上的四个挡板、活动部件和控制部件;其中,所述各挡板通过活动部件与所述曝光本体相连;所述控制部件按照预设的移动参数,控制所述活动部件带动所述挡板移动。
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