[实用新型]一种曝光机及曝光系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种曝光机及曝光系统。

背景技术

在液晶显示技术领域，光刻工艺过程中需要使用带有图形的掩模板对待曝光的基板进行曝光，成膜后的基板经曝光、刻蚀等工艺，形成具有一定图案的器件或者紫外掩模玻璃板(UV Mask Glass)。

现有曝光机只能利用位于待曝光基板上方的掩模板(Mask)得到一定的图案。一种型号的待曝光基板对应一种型号的掩模板。对于不同型号的待曝光基板，现有技术需要购买与待曝光基板相对应的不同型号的掩模板。尤其是阵列基板和彩膜基板在对盒工艺过程中用到的用于遮掩面板有效区域(Active Area)的基板，该基板为紫外掩模玻璃板。通过曝光机上的掩模板对沉积有某种金属的玻璃基板进行曝光、经刻蚀等工艺得到具有一定图案的紫外掩模玻璃板。

由于液晶显示器件新产品的不断开发，不同产品的面板需要不同型号的紫外掩模玻璃板来满足面板在对盒工艺过程中有效区域不受紫外照射的影响，即需要不同的曝光机掩模板来获得不同型号的紫外掩模玻璃板。不同型号的产品是指整体尺寸上存在差异的产品。对于第五代(G5)液晶显示面板而言，生产紫外掩模玻璃板用的每一张掩模板的费用约为10万元，对于第八代(G8)液晶显示面板而言，一张掩模板的费用约为300万元。

现有曝光机只能通过购买各种型号的掩模板，得到待曝光基板上不同大小的图案。而购买掩模板的费用较高，不利于节约曝光工艺的实现成本。

实用新型内容

本实用新型实施例提供了一种曝光机及曝光系统，用以降低曝光工艺的实现成本。

本实用新型实施例提供的一种曝光机，包括：曝光本体，该曝光机还包括位于所述曝光本体上的四个挡板、活动部件和控制部件；其中，

所述各挡板通过活动部件与所述曝光本体相连；

所述控制部件按照预设的移动参数，控制所述活动部件带动所述挡板移动。

本实用新型实施例提供的一种曝光系统，包括上述曝光机和待曝光基板，所述待曝光基板上的光刻胶为负性光刻胶或正性光刻胶。

本实用新型实施例提供的一种曝光机，包括曝光本体与控制部件，该曝光机还包括位于所述曝光本体上的四个挡板；其中，所述每个挡板通过一个活动部件与所述曝光本体相连；所述控制部件用于控制所述活动部件带动所述挡板按照预设参数移动。本实用新型实施例通过所述控制部件控制所述活动部件带动所述挡板按照预设参数移动，使得基板上的一部分区域被曝光，另一部分区域被挡板遮挡。实现通过曝光机上的挡板形成待曝光基板上需要形成的任意大小的图案，并通过多次曝光形成基板上的完整图案。无需购买各种型号的掩模板，就可以得到不同待曝光基板上的不同图案，降低了曝光工艺的实现成本。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的带有四个挡板的曝光机俯视图；

图2为本实用新型实施例提供的挡板围成的区域示意图；

图3为本实用新型实施例提供的具有导轨的曝光机俯视图；

图4为本实用新型实施例提供的曝光系统结构示意图；

图5为本实用新型实施例提供的紫外掩模玻璃板的图案示意图；

图6为本实用新型实施例提供的经一次曝光后得到的紫外掩模玻璃板的图案示意图；

图7为本实用新型实施例提供的经两次曝光后得到的紫外掩模玻璃板的图案示意图；

图8为本实用新型实施例提供的挡板挡出的图案示意图；

图9为本实用新型实施例提供的挡板挡出的另一图案示意图。

具体实施方式

本实用新型实施例提供了一种曝光机及曝光系统，用以降低曝光工艺的实现成本。

参见图1，本实用新型实施例提供的一种曝光机，包括：曝光本体1，该曝光机还包括：位于曝光本体1上的四个挡板，四个活动部件，控制部件2；四个挡板分别为挡板31、挡板32、挡板33和挡板34，四个活动部件分别为活动部件41、活动部件42、活动部件43和活动部件44；其中，各挡板分别通过活动部件与曝光本体1相连，如图1中所示，挡板31和活动部件41相连，挡板32和活动部件42相连，挡板33和活动部件43相连，挡板34和活动部件44相连；控制部件按照预设的移动参数，控制各活动部件带动各挡板移动，形成一个如图2所示的由四个挡板的侧边围成的预设边长的矩形区域80(图2中阴影部分)。