[实用新型]一种曝光机及曝光系统有效

专利信息
申请号: 201120575159.8 申请日: 2011-12-31
公开(公告)号: CN202372754U 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 王德帅;郭建;沈奇雨 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 曝光 系统
【权利要求书】:

1.一种曝光机,包括:曝光本体,其特征在于,该曝光机还包括位于所述曝光本体上的四个挡板、活动部件和控制部件;其中,

所述各挡板通过活动部件与所述曝光本体相连;

所述控制部件按照预设的移动参数,控制所述活动部件带动所述挡板移动。

2.根据权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述各挡板为水平面板且与待曝光基板平行设置。

3.根据权利要求2所述的曝光机,其特征在于,所述各挡板的外周形状为矩形。

4.根据权利要求2所述的曝光机,其特征在于,所述各挡板位于同一水平面;或者

至少有两个挡板位于不同水平面;或者

每个挡板位于不同水平面。

5.根据权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述活动部件为脉冲马达;

所述控制部件按照预设的移动参数,控制所述脉冲马达带动所述挡板沿所述曝光本体上设置的导轨移动。

6.根据权利要求5所述的曝光机,其特征在于,所述曝光机的四个挡板上下左右对称设置;

所述控制部件按照预设的移动参数,控制与上下挡板相连接的脉冲马达,带动上下挡板沿所述曝光本体上设置的垂直方向的导轨移动,以及控制与左右挡板相连接的脉冲马达,带动左右挡板沿所述曝光本体上设置的水平方向导轨移动。

7.根据权利要求6所述的曝光机,其特征在于,所述控制部件为独立于所述曝光本体外的计算机;或者

所述控制部件为与所述曝光本体一体设置的中央控制单元。

8.一种曝光系统,其特征在于,包括权利要求1-7任一权项所述的曝光机和待曝光的基板,所述待曝光基板上的光刻胶为负性光刻胶或正性光刻胶。

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