[实用新型]超导元件结构无效

专利信息
申请号: 201120116871.1 申请日: 2011-04-18
公开(公告)号: CN202077322U 公开(公告)日: 2011-12-14
发明(设计)人: 陈文进;萧永仁 申请(专利权)人: 陈文进;萧永仁
主分类号: H05K7/20 分类号: H05K7/20
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;张彩霞
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型涉及一种超导元件结构,包括一壳体,壳体进一步包括一上板片及一下座,该上板片及下座的内表面利用静电涂布方式披覆有一层金属薄膜,该金属薄膜进一步为一种毛细结构;多个烧结柱体,置于该上板片及该下座构成的容置空间内,该烧结柱体是利用金属粉末冲压烧结成的柱体状多孔质结构;以及一工作流体,填注于该容置空间中,并可于该容置空间内流动,通过相变化传输热能。本实用新型通过工作流体于容置空间内流动,配合毛细结构形成二相流循环,相较于现有技术,能大幅提升整体超导元件的传热性及散热性,同时也降低了生产成本,并提高了经济效益。
搜索关键词: 超导 元件 结构
【主权项】:
一种超导元件结构,用于电子元件(20)的散热,其特征在于:所述超导元件(10)包括:一壳体(12),其包括一上板片(14)及一下座(16),该上板片(14)及该下座(16)的内表面利用静电涂布的方式披覆有一层金属薄膜,该上板片(14)及该下座(16)彼此结合形成一容置空间(17);多个烧结柱体(18),置于该容置空间(17)内,该烧结柱体(18)是利用金属粉末冲压进而烧结成的柱体状,该烧结柱体(18)的表面具有毛细结构;以及一工作流体(40),填注于该容置空间(17)中,该工作流体(40)于该容置空间(17)内流动并通过相变化传输热能。
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