[实用新型]立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置无效

专利信息
申请号: 201120056563.4 申请日: 2011-03-04
公开(公告)号: CN201990722U 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: 邱敬凯;黄泰源;郑耿旻;赖青华;蔡明展 申请(专利权)人: 友威科技股份有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/34
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 何春兰
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置,包括:一腔体,为竖直的壳体并具有前、后面以及左、右两侧,在该腔体内部以贯穿左、右两侧的形态穿设一溅镀空间;在腔体内的顶部设有水冷导引构造,其在腔体顶部的底面以左、右间隔的形态结合多个分别朝下垂直延伸的基板支架杆,在各基板支架杆底端结合一基板,该基板为沿左、右方向延伸的长板体,在基板顶面结合水冷管,在基板底部结合多个朝下凸伸的滚轮座,在各滚轮座底部的周面以可旋转的形态套设一导引作用的滚轮,以水冷管引进外部的冷却水进入腔体内,将水冷导引构造的热能带走,使水冷导引构造上的温度保持一定,防止热变形影响滚轮传输的稳定性,因此能保持镀膜的均匀性。
搜索关键词: 立式 真空镀膜 高温 传输 水冷 装置
【主权项】:
一种立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置,其特征在于,包括:一腔体,为竖直的壳体并具有前、后面以及左、右两侧,在该腔体内部以贯穿左、右两侧的形态穿设一溅镀空间;以及一水冷导引构造,设置在该溅镀空间内的顶部,在该腔体顶部的底面以左、右间隔的形态结合多个分别朝下垂直延伸的基板支架杆,在多数个基板支架杆的底端结合一基板,该基板为沿左、右方向延伸的长板体,在该基板的顶面结合一水冷管,在该基板的底面结合多个朝下凸伸的滚轮座,在各滚轮座底部的周面以可旋转的形态套设一滚轮。
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