[实用新型]立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种立式真空镀膜机的装置，尤其涉及一种立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置。

背景技术

现有立式真空镀膜机如图6所示，是在腔体70内的底部以及顶部分别设有一沿左、右方向延伸的驱动构造71以及一导引构造72，又在腔体70的前面以及内部的后侧各设有一溅射源73以及一加热器74，并将玻璃载具75设置在驱动构造71上而可沿左、右方向行进，当玻璃载具75行进时顶部受导引构造72的导引而能进行一直线的运动。

前述现有的导引构造72是在腔体70顶部的底面结合多个分别朝下垂直延伸的基板支架杆721，在多数个基板支架杆721的底端结合一基板722，在基板722底面以左、右间隔的形态结合多对限位滚轮723，各对限位滚轮723分设于前、后两侧，并且各以内侧抵靠在玻璃载具75顶缘的前面与后面，作为传输玻璃载具75时的导正以及上方的固定手段。

但因制程上的需求，镀膜过程中需要以加热器74将腔体70内的温度加温至300℃至500℃，内部的高温容易造成导引构造72的热变形，使各对限位滚轮723的位置偏移，造成传输玻璃载具75时的不顺情况甚至卡住玻璃载具75不动，影响到镀膜作业的进行。

因此，现有的立式真空镀膜机的导引构造缺乏冷却的设计，因此在加热后容易产生热变形，进而影响传输玻璃载具的流畅。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置，在导引构造设有水冷管，以水冷管将导引构造热量带走而达到避免热变形的功效。

为达到上述目的，本实用新型提供一种立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置，包括：

一腔体，为竖直的壳体并具有前、后面以及左、右两侧，在该腔体内部以贯穿左、右两侧的形态穿设一溅镀空间；以及

一水冷导引构造，设置在该溅镀空间内的顶部，在该腔体顶部的底面以左、右间隔的形态结合多个分别朝下垂直延伸的基板支架杆，在多数个基板支架杆的底端结合一基板，该基板为沿左、右方向延伸的长板体，在该基板的顶面结合一水冷管，在该基板的底面结合多个朝下凸伸的滚轮座，在各滚轮座底部的周面以可旋转的形态套设一滚轮。

进一步，本实用新型在所述基板的前、后两侧缘分别形成一朝上弯曲延伸的立板部，在前、后各立板部的内面与该基板的顶面之间分别形成一弧形且沿左、右方向延伸的弧曲面；所述水冷管为U形的管体且沿左、右方向延伸，该水冷管前、后两侧的外面贴设抵靠在两弧曲面。

更进一步，本实用新型所述各个滚轮座是以左、右间隔的形态结合在所述基板底面的中间。

本实用新型是设置在腔体内，以各个滚轮限制并导引玻璃载具的行进方向为一直线，在水冷导引构造的基板上增设水冷管，通过水冷管引进外部的冷却水进入腔体内循环，将水冷导引构造上的热能带走。

本实用新型的有益效果在于，由于水冷管能冷却水冷导引构造的各基板支架杆、基板以及滚轮座的温度，因此使水冷导引构造的各部分皆能保持一定的温度，防止构造产生热变形而影响到传输的稳定性，因此能保持输送的玻璃载具所固定的玻璃机板镀膜的均匀性。

附图说明

图1是本实用新型较佳实施例的立体图。

图2是本实用新型较佳实施例的分解图。

图3是本实用新型较佳实施例的剖面图。

图4是本实用新型较佳实施例的侧视图。

图5是本实用新型较佳实施例放大的剖面图。

图6是现有立式真空镀膜机的示意图。

元件符号说明

10……腔体         11……溅镀空间

12……开口         20……溅射源

30……驱动构造     31……输送轮支架

311……输送轮      40……加热器

41……加热器支架    50……水冷导引构造

51……基板支架杆    52……基板

521……立板部       522……弧曲面

53……滚轮座        54……滚轮

55……水冷管        60……玻璃载具

61……承载外框      62……导引沟

70……腔体          71……驱动构造

72……导引构造      721……基板支架杆

722……基板         723……限位滚轮

73……溅射源        74……加热器

75……玻璃载具

具体实施方式