[实用新型]立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置无效

专利信息
申请号: 201120056563.4 申请日: 2011-03-04
公开(公告)号: CN201990722U 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: 邱敬凯;黄泰源;郑耿旻;赖青华;蔡明展 申请(专利权)人: 友威科技股份有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/34
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 何春兰
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 立式 真空镀膜 高温 传输 水冷 装置
【权利要求书】:

1.一种立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置,其特征在于,包括:

一腔体,为竖直的壳体并具有前、后面以及左、右两侧,在该腔体内部以贯穿左、右两侧的形态穿设一溅镀空间;以及

一水冷导引构造,设置在该溅镀空间内的顶部,在该腔体顶部的底面以左、右间隔的形态结合多个分别朝下垂直延伸的基板支架杆,在多数个基板支架杆的底端结合一基板,该基板为沿左、右方向延伸的长板体,在该基板的顶面结合一水冷管,在该基板的底面结合多个朝下凸伸的滚轮座,在各滚轮座底部的周面以可旋转的形态套设一滚轮。

2.根据权利要求1所述的立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置,其特征在于,在所述基板的前、后两侧缘分别形成一朝上弯曲延伸的立板部,在前、后各立板部的内面与该基板的顶面之间分别形成一弧形且沿左、右方向延伸的弧曲面;所述水冷管为U形的管体且沿左、右方向延伸,该水冷管前、后两侧的外面贴设抵靠在两弧曲面。

3.根据权利要求1或2所述的立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置,其特征在于,所述各个滚轮座是以左、右间隔的形态结合在所述基板底面的中间。

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