[实用新型]一种有坐标标识的化学机械抛光垫修整盘无效
| 申请号： | 201120022945.5 | 申请日： | 2011-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN202097669U | 公开（公告）日： | 2012-01-04 |
| 发明（设计）人： | 杨宗庆 | 申请（专利权）人： | 深圳嵩洋微电子技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/12 | 分类号： | B24B53/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518055 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种有坐标标识的化学机械抛光垫修整盘，在修整盘上布有磨料颗粒区域的外缘或修整盘的侧面至少一点有不可擦除的标记，全盘上的所有磨料颗粒以有序的图案布列，从而全部磨料颗粒中的每一粒皆可以一个不重复的坐标位置被标识和辨别。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 坐标 标识 化学 机械抛光 修整 | ||
【主权项】：
一种有坐标标识的化学机械抛光垫修整盘，在与抛光垫接触的修整面上固定有磨料颗粒；其特征是：其磨料颗粒是有序排列的，盘面或盘的侧面有一个以上的不可擦除标记作为磨料颗粒位置的坐标参照物。
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