[实用新型]一种有坐标标识的化学机械抛光垫修整盘无效

专利信息
申请号: 201120022945.5 申请日: 2011-01-25
公开(公告)号: CN202097669U 公开(公告)日: 2012-01-04
发明(设计)人: 杨宗庆 申请(专利权)人: 深圳嵩洋微电子技术有限公司
主分类号: B24B53/12 分类号: B24B53/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518055 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 坐标 标识 化学 机械抛光 修整
【权利要求书】:

1.一种有坐标标识的化学机械抛光垫修整盘,在与抛光垫接触的修整面上固定有磨料颗粒;其特征是:其磨料颗粒是有序排列的,盘面或盘的侧面有一个以上的不可擦除标记作为磨料颗粒位置的坐标参照物。

2.根据权利要求1所述有坐标标识的化学机械抛光垫修整盘,其特征是:其上的磨料颗粒是金刚石、立方氮化硼、多晶金刚石、多晶立方氮化硼、CVD气相生长金刚石的至少一种。

3.根据权利要求1所述有坐标标识的化学机械抛光垫修整盘,其特征是:不可擦除标记是由加工形成的划痕、凹陷、凸起物、嵌入物体的其中至少一种。 

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